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光刻胶-KrF光刻胶
徐州博康
半导体光刻胶研发商
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徐州博康是国内一家从原材料到成品光刻胶供应商。

PHS树脂体系,包括高活化能正胶、低活化能正胶以及负性胶等产品,具有高解析度、耐刻蚀、抗离子注入等优点。薄胶以高分辨为特点,解析度可达HP120nm,厚胶以高深宽比为特点,AR可达12:1,已进入客户端验证。目前已有近20+支KrF产品在国内12寸Fab验证及销售。

曝光波长产品名称技术节点及应用工艺能力CD工艺能力THK图像
248nmHTK1061N40-14nm KrF L/S (IMP,Etch)0.12um0.20-0.30um
248nmHTK1062N40-14nm KrF L/S (IMP,Etch)0.14um0.17-0.24um
248nmHTK1063N40-14nm KrF L/S (IMP,Etch)0.16um0.22-0.32um
248nmHTK1064N40-28nm KrF L/S (Etch)0.16um0.35-0.54um
248nmHTK1065N65/55nm KrF L/S (IMP)0.16um0.24-0.34um
248nmHTK1066N65/55nm KrF L/S (IMP)0.16um0.33-0.48um
248nmHTK1067N40-14nm KrF L/S (IMP)0.16um0.33-0.48um
248nmHTK1075N40nm-14nm KrF L/S (IMP,Etch)0.20um0.65-0.95um
248nmHTK1082N40nm-14nm KrF L/S (IMP,Etch)0.30um0.80-1.20um
248nmHTK3001N90-14nm KrF L/S, C/H, (IMP,Etch)0.32um1.0-1.5um
248nmHTK50013DNAND 台阶刻蚀/高能离子注入1.70um3.0-5.0um
248nmHTK510刻蚀2um3.0-5.0um
248nmHTK516-1PAD0.6um1.0-2.0um
248nmHTK516-2PAD1um1.5-3.0um
248nmHTKN601-0.4化合物半导体 (金属剥离,KrF 负胶)0.2um0.3-0.6um


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