配套薄膜量检测设备
包括薄膜厚度测量仪和应力分析仪等专用工具，集成光谱椭偏仪或干涉测量技术，实时监控沉积或键合工艺中的薄膜特性，如厚度均匀性、应力分布和缺陷检测，确保质量控制和工艺稳定性。
先进晶圆键合设备
用于三维集成领域的混合键合或直接键合系统，支持铜对铜（Cu-Cu）和硅对硅键合，实现高密度互连和堆叠芯片结构，配备对准精度达亚微米级的机械和光学系统，优化3D IC制造良率。
次大气压化学气相沉积设备（SACVD）
专为高纵横比结构设计的沉积设备，利用低压化学气相沉积原理，实现间隙填充和保形覆盖，适用于多晶硅或氧化物层沉积，确保晶圆表面平整度和无空隙填充。
原子层沉积设备（ALD）
提供纳米级薄膜厚度控制的高精度设备，支持热ALD和等离子体增强ALD，用于沉积高k金属栅堆叠、刻蚀停止层等，满足7纳米及以下工艺节点要求，具有低热预算和高台阶覆盖率。
等离子体增强化学气相沉积设备（PECVD）
用于在半导体晶圆上沉积二氧化硅、氮化硅等介质薄膜的设备，具有高均匀性、低缺陷率和高产出特性，适用于先进逻辑和存储芯片的制造，如FinFET和3D NAND结构中的隔离层或阻挡层沉积。
融资次数
1
员工数量
100-499人
经营范围
一般项目：技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；电子专用设备制造；电子专用设备销售；半导体器件专用设备制造；半导体器件专用设备销售；机械零件、零部件加工；机械零件、零部件销售；销售代理；非居住房地产租赁(除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动)。许可项目：货物进出口；技术进出口(依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以审批结果为准)。
主营业务
高端半导体专用设备的研发、生产与销售，核心产品包括薄膜沉积设备、三维集成键合设备及配套量检测设备
拓荆键科（海宁）半导体设备有限公司
其他有限责任公司
￥1,068万
2020-09-30
刘静
pr@hnpiotech.com
浙江省海宁经济开发区芯中路8号3幢