步进扫描投影光刻技术
SMEE开发的高精度光刻系统核心技术，采用深紫外光源（248nm或365nm）和非球面投影物镜设计，实现亚微米级分辨率图形转移。创新点包括高精度掩模-晶圆同步扫描控制系统和实时自动对准技术，显著降低畸变误差并提高曝光精度，支持90nm工艺节点及以上的集成电路制造。系统集成智能闭环反馈机制，优化光强均匀性和稳定性。
融资次数
4
员工数量
1000-4999人
专利数量
2937
经营范围
半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务，经营本企业自产产品的出口业务和本企业所需的机械设备、零配件、原辅材料的进口业务（但国家限定公司经营或禁止进出口的商品及技术除外）。【依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】
主营业务
专注于半导体装备、泛半导体装备及高端智能装备的开发、设计、制造、销售和技术服务，主要产品包括光刻机和其他核心制造设备，服务于集成电路、封装、显示等先进制造领域。
上海微电子装备（集团）股份有限公司
股份有限公司(非上市、国有控股)
￥2.6612亿
2002-03-07
干频
021-51315131
xiayj@smee.com.cn
中国（上海）自由贸易试验区张东路1525号