3D NAND薄膜设备
针对三维NAND闪存存储器优化的薄膜沉积设备，满足多层堆叠结构的精确需求，用于沉积氧化硅、氮化硅或多层薄膜，支持高深宽比和高均匀性的沉积工艺，适用于高密度存储器件的制造，提升存储容量和可靠性。
OLED薄膜设备
薄膜沉积设备专为有机发光二极管（OLED）显示面板设计，支持大面积基板处理（如玻璃或柔性基板），用于均匀沉积有机功能层、阴极或保护层，实现高质量发光效果，广泛应用于手机、电视等OLED显示屏的生产。
12英寸ALD设备
原子层沉积设备（ALD），针对12英寸晶圆设计，实现高精度、亚纳米级薄膜控制，用于集成电路中的高k介电层、金属栅极或隔离层沉积，提供出色的阶梯覆盖性和薄膜均匀性，服务于先进制程节点的半导体制造。
2-12英寸PECVD设备
等离子体增强化学气相沉积设备（PECVD），支持2英寸至12英寸晶圆尺寸，适用于大规模集成电路生产线中的介电层、钝化层或金属化层制备，提供高均匀性薄膜沉积，主要应用于逻辑芯片、存储芯片制造中的关键步骤。
A股代码
688072.SH
专利数量
684
经营范围
一般项目：技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广，电子专用设备制造，电子专用设备销售，半导体器件专用设备制造，半导体器件专用设备销售，机械零件、零部件加工，机械零件、零部件销售，销售代理，非居住房地产租赁（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）
主营业务
拓荆科技的核心业务是研发、生产和销售半导体薄膜沉积设备，如PECVD和ALD设备，专注于支持集成电路、先进封装、OLED显示和3D NAND存储器等高端技术领域的制造过程。
拓荆科技股份有限公司
股份有限公司（外商投资、上市）
￥1.8819亿
2010-04-28
刘静
024-24188000
mingyue.guo@piotech.cn
辽宁省沈阳市浑南区水家900号