服务中芯国际
拓荆科技为中芯国际（Semiconductor Manufacturing International Corporation, SMIC）供应ALD设备，应用于先进集成电路制程，如14nm和28nm节点。设备用于晶体管栅极和金属互连层的精确薄膜沉积，支持finFET工艺，提升了芯片性能和可靠性。这一合作帮助中芯国际降低了依赖进口设备的风险，加速了国产化进程。
服务长江存储
拓荆科技向长江存储（Yangtze Memory Technologies Co., Ltd., YMTC）提供PECVD设备，用于其3D NAND闪存生产线。设备应用于128层堆叠技术的薄膜沉积工艺中，具体负责沉积关键薄膜层（如氮化硅和氧化物），以支持高密度存储芯片的制造。这一合作帮助长江存储优化了生产流程，提高了良率和生产效率，巩固了其在NAND市场的地位。
A股代码
688072.SH
专利数量
684
经营范围
一般项目：技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广，电子专用设备制造，电子专用设备销售，半导体器件专用设备制造，半导体器件专用设备销售，机械零件、零部件加工，机械零件、零部件销售，销售代理，非居住房地产租赁（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）
主营业务
拓荆科技的核心业务是研发、生产和销售半导体薄膜沉积设备，如PECVD和ALD设备，专注于支持集成电路、先进封装、OLED显示和3D NAND存储器等高端技术领域的制造过程。
拓荆科技股份有限公司
股份有限公司（外商投资、上市）
￥1.8819亿
2010-04-28
刘静
024-24188000
mingyue.guo@piotech.cn
辽宁省沈阳市浑南区水家900号