3D NAND薄膜设备
针对3D NAND闪存结构优化的薄膜沉积设备,用于在存储器芯片中实现高密度堆栈层,支持3D存储技术的规模化生产。
OLED薄膜设备
专用于有机发光二极管显示器制造的专业设备,支持OLED面板的薄膜沉积过程,以提高显示性能和良率。
ALD设备
原子层沉积设备,专为12英寸晶圆设计,提供高精度和均匀性的薄膜沉积,应用于先进半导体制造中,以满足对薄膜厚度控制的严格要求。
PECVD设备
等离子体增强化学气相沉积设备,尺寸覆盖2英寸至12英寸,适用于大规模集成电路生产线,主要用于在晶圆上沉积薄膜层,支持先进制程。
细分行业
A股代码
688072.SH
专利数量
684
经营范围
一般项目:技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广,电子专用设备制造,电子专用设备销售,半导体器件专用设备制造,半导体器件专用设备销售,机械零件、零部件加工,机械零件、零部件销售,销售代理,非居住房地产租赁(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动)
主营业务
拓荆科技的核心业务是研发、生产和销售半导体薄膜沉积设备,如PECVD和ALD设备,专注于支持集成电路、先进封装、OLED显示和3D NAND存储器等高端技术领域的制造过程。
拓荆科技股份有限公司
股份有限公司(外商投资、上市)
¥1.8819亿
2010-04-28
刘静
024-24188000
mingyue.guo@piotech.cn
辽宁省沈阳市浑南区水家900号