3D NAND薄膜设备
针对3D NAND闪存结构优化的薄膜沉积设备，用于在存储器芯片中实现高密度堆栈层，支持3D存储技术的规模化生产。
OLED薄膜设备
专用于有机发光二极管显示器制造的专业设备，支持OLED面板的薄膜沉积过程，以提高显示性能和良率。
ALD设备
原子层沉积设备，专为12英寸晶圆设计，提供高精度和均匀性的薄膜沉积，应用于先进半导体制造中，以满足对薄膜厚度控制的严格要求。
PECVD设备
等离子体增强化学气相沉积设备，尺寸覆盖2英寸至12英寸，适用于大规模集成电路生产线，主要用于在晶圆上沉积薄膜层，支持先进制程。
细分行业
A股代码
688072.SH
专利数量
684
经营范围
一般项目：技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广，电子专用设备制造，电子专用设备销售，半导体器件专用设备制造，半导体器件专用设备销售，机械零件、零部件加工，机械零件、零部件销售，销售代理，非居住房地产租赁（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）
主营业务
拓荆科技的核心业务是研发、生产和销售半导体薄膜沉积设备，如PECVD和ALD设备，专注于支持集成电路、先进封装、OLED显示和3D NAND存储器等高端技术领域的制造过程。
拓荆科技股份有限公司
股份有限公司（外商投资、上市）
￥1.8819亿
2010-04-28
刘静
024-24188000
mingyue.guo@piotech.cn
辽宁省沈阳市浑南区水家900号