CVD SiC技术
志橙半导体独立研发了化学气相沉积碳化硅（CVD SiC）技术，从技术预研、CVD设备自主开发到SiC产品小试阶段实现突破。该技术专注于在反应腔中沉积高质量碳化硅外延层，创新点包括完全自主的CVD设备开发（替代进口依赖）、规模化量产工艺优化（提升沉积精度和均匀性），以及材料性能稳定性的控制，以支持半导体外延生产过程。
融资次数
4
员工数量
-
专利数量
19
经营范围
一般经营项目是：研发、设计、销售：电子元器件、半导体产品、化合物半导体产品、光学电子产品、太阳能产品、金属材料和金属化合物材料；非危险性化学品的销售、半导体器件生产设备的销售、维护、维修服务；提供商务咨询服务。自营和代理各类商品及技术的进出口业务（国家限定企业经营或禁止进出口的商品和技术除外）。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动），许可经营项目是：电子元器件、半导体产品、化合物半导体产品、光学电子产品、太阳能产品、金属材料和金属化合物材料的制造。
主营业务
半导体外延材料供应商，专注于为晶圆生产设备（如反应腔）提供零部件，覆盖集成电路硅外延、LED GaN外延和第三代半导体SiC外延的生产需求。
深圳市志橙半导体材料股份有限公司
其他股份有限公司(非上市)
2017-12-26
朱佰喜
yl@zcsemicon.com
深圳市宝安区松岗街道潭头社区健仓科技研发厂区办公楼307