iTronix®系列化学气相沉积系统
iTronix®系列化学气相沉积（CVD）系统采用自主研发的反应腔室和电气软件集成化服务，在逻辑、存储、先进封装、显示器件等芯片制造领域具有广泛应用，可满足多种功能性薄膜沉积工艺的开发和应用需求。搭载新型平台可安装更多反应腔以满足高产能需求。
已点赞
点赞
转发
已收藏
收藏
iTronix®系列化学气相沉积系统
iTronix®系列化学气相沉积（CVD）系统采用自主研发的反应腔室和电气软件集成化服务，在逻辑、存储、先进封装、显示器件等芯片制造领域具有广泛应用，可满足多种功能性薄膜沉积工艺的开发和应用需求。搭载新型平台可安装更多反应腔以满足高产能需求。