集成电路化学机械抛光（CMP）抛光液解决方案
该解决方案专注于开发用于半导体芯片制造中的化学机械抛光液，基于先进纳米技术，核心产品包括铜抛光液、硅溶胶基抛光液等，通过特定配方设计实现高效平坦化铜、钽、介电材料等表面层，提升芯片的表面光洁度和良率，适用于先进制程节点如14nm及以下。技术来源于与中国科学院上海微系统与信息技术研究所的合作研发，并在国家重点研发计划中获得支持。
融资次数
2
员工数量
50-99人
专利数量
25
经营范围
一般项目：技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；电子专用材料研发；电子专用材料制造；新材料技术研发；新型建筑材料制造（不含危险化学品）；基础化学原料制造（不含危险化学品等许可类化学品的制造）；货物进出口；技术进出口(除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动)。
主营业务
半导体级纳米抛光材料及芯片制程配套技术的研发与产业化
浙江新创纳电子科技有限公司
有限责任公司(自然人投资或控股)
￥1,800万
2013-11-19
宋志棠
0573-87181988
ypwang@xinchuangna.com
浙江省海宁市斜桥镇云星路138号