低缺陷率抛光液配方技术
基于氧化还原电位动态平衡机制，创新性开发了多配位络合缓蚀体系。采用有机膦酸类化合物（如DTPMP）与过渡金属离子形成梯级螯合结构，配合过氧化氢/羟胺氧化剂协同缓释技术，实现铜腐蚀速率控制精度达±0.5Å/min。技术突破在于开发了pH缓冲增强剂，维持体系pH波动＜0.1，从根源抑制碟形缺陷产生。
化学机械抛光(CMP)纳米材料技术
新创纳专注于半导体级化学机械抛光液的纳米磨料研发，核心是通过溶胶-凝胶法制备高分散性、窄粒径分布的硅基纳米颗粒（粒径控制±2nm）。创新点在于开发了表面电荷稳定技术，实现磨料在碱性环境下的Zeta电位精确调控（-40mV至-60mV），并通过有机-无机复合修饰降低磨料团聚，使抛光液在6个月内保持沉降率＜5%。
融资次数
2
员工数量
50-99人
专利数量
25
经营范围
一般项目：技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；电子专用材料研发；电子专用材料制造；新材料技术研发；新型建筑材料制造（不含危险化学品）；基础化学原料制造（不含危险化学品等许可类化学品的制造）；货物进出口；技术进出口(除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动)。
主营业务
半导体级纳米抛光材料及芯片制程配套技术的研发与产业化
浙江新创纳电子科技有限公司
有限责任公司(自然人投资或控股)
￥1,800万
2013-11-19
宋志棠
0573-87181988
ypwang@xinchuangna.com
浙江省海宁市斜桥镇云星路138号