产品&解决方案
基于氧化还原电位动态平衡机制，创新性开发了多配位络合缓蚀体系。采用有机膦酸类化合物（如DTPMP）与过渡金属离子形成梯级螯合结构，配合过氧化氢/羟胺氧化剂协同缓释技术，实现铜腐蚀速率控制精度达±0.5Å/min。技术突破在于开发了pH缓冲增强剂，维持体系pH波动＜0.1，从根源抑制碟形缺陷产生。
新创纳专注于半导体级化学机械抛光液的纳米磨料研发，核心是通过溶胶-凝胶法制备高分散性、窄粒径分布的硅基纳米颗粒（粒径控制±2nm）。创新点在于开发了表面电荷稳定技术，实现磨料在碱性环境下的Zeta电位精确调控（-40mV至-60mV），并通过有机-无机复合修饰降低磨料团聚，使抛光液在6个月内保持沉降率＜5%。
开展集成电路相关制程技术研究，包括半导体材料表面处理、微纳结构加工工艺及芯片制造环节中的辅助材料技术创新
重点研发化学机械抛光（CMP）用纳米磨料悬浮液，涉及半导体级高纯度磨料制备、pH调节剂配方及晶圆表面平坦化工艺优化
从事纳米尺度材料（1-100nm）的合成工艺研究，包括表面修饰、功能化改性及在电子、能源、生物医学等领域的创新应用开发
专注于二氧化硅纳米颗粒在水基或溶剂基中的分散体系研发，涉及胶体稳定性控制、粒径分布优化及在精密铸造、涂料等工业领域的应用技术开发
该解决方案专注于开发用于半导体芯片制造中的化学机械抛光液，基于先进纳米技术，核心产品包括铜抛光液、硅溶胶基抛光液等，通过特定配方设计实现高效平坦化铜、钽、介电材料等表面层，提升芯片的表面光洁度和良率，适用于先进制程节点如14nm及以下。技术来源于与中国科学院上海微系统与信息技术研究所的合作研发，并在国家重点研发计划中获得支持。
纳米二氧化硅是新创纳开发的高纯纳米颗粒材料，具有高比表面积和均匀粒径分布，主要应用于抛光液配方、涂层添加剂和电子材料增强。该产品通过先进的合成工艺控制颗粒尺寸在10-100纳米范围，提升其在集成电路、光电子器件中的性能表现，如改善机械强度、热稳定性和光学特性。
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融资次数
1
员工数量
50-99人
专利数量
25
公司简介
浙江新创纳电子科技有限公司于2013年11月19日在海宁市市场监督管理局登记成立。法定代表人宋志棠，公司经营范围包括硅溶胶、纳米材料、抛光液、电子芯片的技术开发等。
经营范围
一般项目：技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；电子专用材料研发；电子专用材料制造；新材料技术研发；新型建筑材料制造（不含危险化学品）；基础化学原料制造（不含危险化学品等许可类化学品的制造）；货物进出口；技术进出口(除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动)。
主营业务
半导体级纳米抛光材料及芯片制程配套技术的研发与产业化
浙江新创纳电子科技有限公司
有限责任公司(自然人投资或控股)
￥1,800万
2013-11-19
宋志棠
0573-87181988
ypwang@xinchuangna.com
浙江省海宁市斜桥镇云星路138号