纳米二氧化硅材料
纳米二氧化硅是新创纳开发的高纯纳米颗粒材料，具有高比表面积和均匀粒径分布，主要应用于抛光液配方、涂层添加剂和电子材料增强。该产品通过先进的合成工艺控制颗粒尺寸在10-100纳米范围，提升其在集成电路、光电子器件中的性能表现，如改善机械强度、热稳定性和光学特性。
硅溶胶基化学机械抛光液
该产品是一种高性能抛光液，用于半导体晶圆制造的化学机械抛光过程，采用纳米级硅溶胶作为研磨粒子，能够有效去除表面材料，实现高平坦化和低缺陷率，适用于集成电路和电子芯片的精密加工。其关键特性包括优化的去除速率选择比、低残留性和高稳定性，可显著提升芯片良率。
融资次数
2
员工数量
50-99人
专利数量
25
经营范围
一般项目：技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；电子专用材料研发；电子专用材料制造；新材料技术研发；新型建筑材料制造（不含危险化学品）；基础化学原料制造（不含危险化学品等许可类化学品的制造）；货物进出口；技术进出口(除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动)。
主营业务
半导体级纳米抛光材料及芯片制程配套技术的研发与产业化
浙江新创纳电子科技有限公司
有限责任公司(自然人投资或控股)
￥1,800万
2013-11-19
宋志棠
0573-87181988
ypwang@xinchuangna.com
浙江省海宁市斜桥镇云星路138号