产品&解决方案
静电吸盘是用于半导体制造的核心设备组件，通过静电吸附原理固定和温控晶圆。产品包括单区、多区 ESC，支持多种晶圆尺寸（如300mm），应用在蚀刻、物理气相沉积（PVD）、刻蚀等制程中，具备高吸附力、低颗粒污染和热管理功能，以提高良率和设备可靠性。
研发和生产新型ALN加热器，材料采用氮化铝陶瓷，具有高导热性、低热膨胀系数和优异的电绝缘性能。适用于半导体制造设备中的高温环境，如快速热处理（RTP）、化学气相沉积（CVD）等过程，确保晶圆加工温度的均匀性和稳定性。
提供ALN（氮化铝）加热器的翻新服务，专注于延长加热器使用寿命，降低客户成本。ALN加热器常用于半导体设备中的精确温度控制，服务包括清洗、检测缺陷、修复损坏部件及性能优化。