UV曝光解决方案
UV曝光镜头解决方案针对UV光刻系统设计，通过精密的光学优化和热分析，实现高效图案曝光。该方案强调高精度透镜组和稳定热管理，确保在紫外线波段下的可靠传输和低能量损失。
紫外照明解决方案
紫外照明镜头解决方案用于提供均匀且高效的紫外光源分布，作为光刻系统的关键组成部分。赛源光学利用光学系统设计能力，实现高透过率和光斑一致性，减少曝光不均问题，提升整体光刻效率。
激光直写解决方案
基于激光直写镜头，该解决方案支持无掩模光刻技术，直接在基板上创建精细图案。赛源光学通过精密装调和杂光分析，实现高精度的激光焦点控制，缩短制造周期，适合快速原型开发和小批量生产。
紫外光刻解决方案
赛源光学的紫外光刻镜头解决方案专为半导体光刻应用设计，利用i-line或g-line紫外光源，实现亚微米尺度图案转移。该解决方案结合光机结构设计和精密测试能力，优化数值孔径（NA），提升曝光效率和控制精度，适用于IC和微电子制造。
LDI光刻投影解决方案
基于赛源光学的LDI光刻投影镜头，该镜头采用精密光学设计，实现微米级分辨率，适用于激光直接成像（Laser Direct Imaging）技术。该解决方案集成热分析和杂光控制，确保在高功率激光下的稳定投影，减少图案畸变，提高PCB制造精度。
员工数量
小于50人
专利数量
25
经营范围
许可项目：货物进出口；技术进出口（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以审批结果为准）一般项目：技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；光电子器件销售；电子元器件零售；仪器仪表制造；专用设备制造（不含许可类专业设备制造）；光电子器件制造；电子元器件制造；电力电子元器件销售；仪器仪表修理；专业设计服务；采购代理服务（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）
主营业务
微米级光刻镜头的研发、设计、制造及供应