UV曝光镜头
UV曝光镜头，专为紫外波段设计的光学组件，控制UV光源的照射到感光材料上。该镜头通过精密的光学校正和杂光抑制技术，实现高效曝光和微米级分辨率，广泛应用于掩模对准曝光和紫外线固化工艺。
紫外照明镜头
紫外照明镜头，设计用于提供均匀和高强度的紫外光照明，作为光刻系统的基础模块。其特性包括高光通量、低散射损失和热稳定性，确保整个光刻过程中的曝光均匀性和重复性，应用于各种紫外光源系统。
激光直写镜头
激光直写镜头，利用聚焦激光束直接在材料表面写入精细图案，避免传统掩模光刻的限制。该镜头具备高扫描精度、快速响应特性和耐久性，适用于微纳加工、光刻原型测试和小批量制造应用。
紫外光刻镜头
紫外光刻投影镜头，工作在深紫外（DUV）或中紫外波段，用于半导体光刻机的曝光系统。其设计包括特殊镀膜和光学元件，确保高能量传输效率和最小化像差，适用于微电子器件、MEMS传感器和光学元件的微米级光刻工艺。
LDI光刻投影镜头
激光直接成像光刻投影镜头，用于将激光图像投影到光敏基板上，实现高精度图案转移。该镜头具有微米级分辨率、低畸变和高稳定性，适用于印刷电路板（PCB）、集成电路封装、显示面板制造等领域，支持直接写入模式以避免掩模需求。
员工数量
小于50人
专利数量
25
经营范围
许可项目：货物进出口；技术进出口（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以审批结果为准）一般项目：技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；光电子器件销售；电子元器件零售；仪器仪表制造；专用设备制造（不含许可类专业设备制造）；光电子器件制造；电子元器件制造；电力电子元器件销售；仪器仪表修理；专业设计服务；采购代理服务（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）
主营业务
微米级光刻镜头的研发、设计、制造及供应