水性聚氨酯无纺布抛光垫
采用水基聚氨酯材料制造的非织造布抛光垫，具有良好的吸附性和耐用性，在CMP制程中用于承载磨料液体、提供均匀摩擦表面，以实现高效、无划伤的衬底抛光。
超高纯氧化硅磨料
专用于半导体衬底化学机械抛光(CMP)制程的高纯度磨料成分，纯度达到超高水准，以减少污染物和提升抛光效率，主要应用于硅片、蓝宝石等材料表面的精密抛光。
员工数量
-
专利数量
18
经营范围
一般项目：电子专用材料制造；合成材料制造（不含危险化学品）；专用化学产品制造（不含危险化学品）；化工产品生产（不含许可类化工产品）；电子专用材料研发；新材料技术研发；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；电子专用材料销售；化工产品销售（不含许可类化工产品）；合成材料销售；合成纤维销售；生物基材料销售；稀土功能材料销售；针纺织品及原料销售；高纯元素及化合物销售；专用化学产品销售（不含危险化学品）；机械设备租赁；社会经济咨询服务；信息技术咨询服务；技术进出口(除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动)。
主营业务
半导体衬底CMP制程整体解决方案
衢州博来纳润电子材料有限公司
有限责任公司（自然人投资或控股的法人独资）
2022-12-05
张泽芳
xuguangqin@yz-polishing.com
浙江省衢州市银仓路10号2幢2号