负胶光刻及lift-off工艺解决方案
基于KMP E3000系列负性光刻胶，专为lift-off工艺设计，提供优异剥离性能和线条控制。结合配套试剂，优化图案形成过程，适用于需要高可靠性 lift-off 的应用。
G/I线光刻胶解决方案
利用KMP C5000、KMP C7000、KMP C8000、KMP EP3100和KMP EP3200A系列光刻胶，覆盖G-line和I-line曝光波长，包括紫外宽谱应用。提供定制配方和配套试剂，满足传统和成熟工艺中的成本效益需求。
高性能KrF光刻胶解决方案
基于科华微电子的DK系列KrF光刻胶（包括DK1080、DK2000、DK3000系列），支持248nm光刻技术，提供高分辨率和高精度，适用于高端半导体光刻制程。该解决方案包括完整的生产、供应和技术支持，确保产品在复杂环境中稳定性能。
融资次数
7
员工数量
100-499人
专利数量
36
经营范围
一般项目：电子专用材料制造；电子专用材料销售；电子专用材料研发；化工产品销售（不含许可类化工产品）；专用化学产品销售（不含危险化学品）；包装材料及制品销售；气体、液体分离及纯净设备销售；货物进出口；进出口代理；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）许可项目：检验检测服务。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以相关部门批准文件或许可证件为准）（不得从事国家和本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）
主营业务
光刻胶及配套试剂的研发、生产、销售与服务