负胶光刻技术
针对Lift-off工艺，开发了高黏着性橡胶基光刻胶，采用环化橡胶系配方优化了负胶的抗刻蚀性能。技术特色包括添加剂的可控释放系统，确保显影后边缘平滑，提高器件成品率。
G/I线正胶集成生产技术
结合宽谱紫外线波段，开发了多级光敏聚合物体系，优化了涂布和显影工艺，提升了产能和一致性。技术包括溶剂配方的创新，减少了膜层应力，适用于高深宽比结构制造，支持国产化大规模生产。
KrF光刻胶配方技术
科华微电子专注于248nm波长光刻胶的研发，采用专利的树脂基体和光敏剂系统，实现了高分辨率（可达100nm级别）和曝光敏感度的提升。该技术通过精确调控高分子材料的分子量和交联度，减少了光刻过程中的缺陷密度，并实现了光致酸剂的稳定释放，是国产高端光刻胶产业化的重要突破。
融资次数
7
员工数量
100-499人
专利数量
36
经营范围
一般项目：电子专用材料制造；电子专用材料销售；电子专用材料研发；化工产品销售（不含许可类化工产品）；专用化学产品销售（不含危险化学品）；包装材料及制品销售；气体、液体分离及纯净设备销售；货物进出口；进出口代理；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）许可项目：检验检测服务。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以相关部门批准文件或许可证件为准）（不得从事国家和本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）
主营业务
光刻胶及配套试剂的研发、生产、销售与服务