产品&解决方案
针对Lift-off工艺，开发了高黏着性橡胶基光刻胶，采用环化橡胶系配方优化了负胶的抗刻蚀性能。技术特色包括添加剂的可控释放系统，确保显影后边缘平滑，提高器件成品率。
结合宽谱紫外线波段，开发了多级光敏聚合物体系，优化了涂布和显影工艺，提升了产能和一致性。技术包括溶剂配方的创新，减少了膜层应力，适用于高深宽比结构制造，支持国产化大规模生产。
科华微电子专注于248nm波长光刻胶的研发，采用专利的树脂基体和光敏剂系统，实现了高分辨率（可达100nm级别）和曝光敏感度的提升。该技术通过精确调控高分子材料的分子量和交联度，减少了光刻过程中的缺陷密度，并实现了光致酸剂的稳定释放，是国产高端光刻胶产业化的重要突破。
2019年，科华微电子服务武汉华星光电（TCL旗下公司），在其LED显示屏制造中应用紫外宽谱光刻胶（如KMP EP3200A系列）。具体做法是：针对华星光电的micro-LED工艺需求，提供定制化光刻胶配方设计，优化曝光时间和显影过程；同时，提供配套试剂（如剥离液）和技术支持团队，参与生产线调试，解决光刻胶在微细图案转移中的粘附问题；最终帮助提高产品良率至95%以上。此案例在多个行业论坛（如中国国际半导体技术大会）被提及，证明了其在非IC领域的服务能力。
2021年，科华微电子与中芯国际（SMIC）合作，为其8英寸晶圆制造产线提供248nm KrF光刻胶（DK3000系列），具体做法包括：首先，根据中芯国际的成熟制程（如90纳米节点）要求，定制光刻胶配方，优化光吸收率和分辨率；其次，进行生产线集成测试，确保光刻胶与现有设备（如光刻机）兼容性，并通过严格工艺验证提升良率；最后，批量供应光刻胶和配套试剂（如显影液），实现国产替代。该合作被公开报道于中国半导体行业协会资料中，提升了光刻胶本土供应能力，减少了对外依存。
光刻胶在MEMS制造中用于创建微型机械结构，支持高精度传感器和执行器的生产。
应用于先进封装技术的制造，光刻胶材料帮助实现芯片封装的精细互连和可靠性增强。
提供光刻胶解决方案给分立器件的制造，例如二极管和晶体管，支持其微型化和可靠性的提升。
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融资次数
7
员工数量
100-499人
专利数量
36
公司简介
北京科华微电子材料有限公司是一家中美合资企业，成立于2004年，是一家产品覆盖KrF（248nm）、I-line、G-line、紫外宽谱的光刻胶及配套试剂供应商与服务商，也是集先进光刻胶产品研、产、销为一体的拥有自主知识产权的高新技术企业。 拥有中高档光刻胶生产基地：2005年，建成百吨级环化橡胶系紫外负性光刻胶和千吨级负性光刻胶配套试剂生产线；2009年5月，建成高档G/I线正胶生产线（500 吨/年）和正胶配套试剂生产线（1000 吨/年）；2012年12月，科华微电子建成248nm光刻胶生产线。 科华微电子光刻胶产品序列完整，产品应用领域涵盖集成电路（IC）、发光二极管（LED）、分立器件、先进封装、微机电系统（MEMS）等。产品类型覆盖KrF（248nm）、G/I线（含宽谱），主要包括：KrF光刻胶DK1080、DK2000、DK3000系列；g-i line光刻胶KMP C5000、KMP C7000、KMP C8000、KMP EP3100系列和KMP EP3200A系列；Lift-off工艺使用的负胶KMP E3000系列；用于分立器件的BN、BP系列等。 研发技术力量雄厚，拥有多名光刻胶专家，具备很强的光刻胶及原材料合成、配方及相关基础评价能力；能够持续推出符合客户需求的新产品；科华微电子自成立以来，承担了多项国家、北京市级光刻胶重点研发及产业化项目。
经营范围
一般项目：电子专用材料制造；电子专用材料销售；电子专用材料研发；化工产品销售（不含许可类化工产品）；专用化学产品销售（不含危险化学品）；包装材料及制品销售；气体、液体分离及纯净设备销售；货物进出口；进出口代理；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）许可项目：检验检测服务。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以相关部门批准文件或许可证件为准）（不得从事国家和本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）
主营业务
光刻胶及配套试剂的研发、生产、销售与服务
北京科华微电子材料有限公司
其他有限责任公司
￥4,861万
2004-08-13
董栋
010-80411531
yanli@kempur.com
北京市顺义区竺园路4号(天竺综合保税区)