产品&解决方案
鲁汶仪器的集成式晶圆清洗和表面缺陷检测设备，采用自动化清洁技术和非接触式测量方法，确保半导体材料在生产和研发过程中的无污染和高良品率。
基于鲁汶仪器的原子层沉积系统，提供超薄薄膜沉积能力，通过可控的原子级反应实现高质量功能薄膜沉积于半导体表面，支持多种材料体系如高K介电层。
鲁汶仪器提供的高精度等离子体蚀刻设备解决方案，利用先进的等离子体技术实现半导体晶圆的精细蚀刻，支持复杂结构加工，确保蚀刻精度在纳米级别，适用于先进工艺开发。
该设备用于半导体晶圆上的材料刻蚀，采用多种等离子源（如ICP和CCP），支持多种材料（包括硅、氧化硅和金属）的高精度加工。系统具备实时监测和自动化控制功能，确保刻蚀过程的稳定性和一致性，适应研发和大规模生产需求。
专为高深宽比结构设计，结合反应离子刻蚀（RIE）技术，实现硅基材料的精确深沟槽刻蚀，适用于3D NAND闪存、微机电系统（MEMS）和光电器件制造。提供高刻蚀速率、低侧壁损伤和优异的剖面控制。
原子层沉积（ALD）设备利用精准的薄膜沉积技术，在原子尺度控制薄膜厚度和均匀性，适合制造高性能的逻辑芯片、存储器、以及微电子传感器。该系统支持高温和低压操作，增强薄膜质量，减少缺陷。
该设备专为磁性随机存取存储器（MRAM）设计，采用等离子刻蚀技术，提供低损伤、高均匀性的刻蚀性能，支持先进存储器件的高密度集成制造。适用于逻辑芯片和存储器生产中微小结构的精确加工。
融资次数
9
员工数量
100-499人
专利数量
378
公司简介
江苏鲁汶仪器有限公司是由比利时鲁汶仪器、中科院微电子研究所等共同注资成立。公司总部位于江苏省邳州市，在比利时设有研发中心及销售部，在北京和俄罗斯设有销售部。公司秉承“以创新为主导，客户信赖为第一”的宗旨，倡导精益求精的工匠精神，为客户提供性能卓越的半导体研发、生产、材料检测等精密设备及配套技术服务。
经营范围
精密仪器、电工机械专用设备、电子工业专用设备、光学仪器、变压器、整流器和电感器、电容器及其配套设备、配电开关控制设备、电力电子元器件、光伏设备及元器件、信息化学品、集成电路、数模集成电路、混合集成电路、无源集成元件、通用和专用仪器仪表研发、设计、制造，服务及销售；仪表仪器修理；软件开发；信息技术咨询服务；专利服务；国际、国内贸易代理服务；质检技术服务。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）
主营业务
半导体精密设备研发、生产和销售，以及配套技术服务
江苏鲁汶仪器股份有限公司
股份有限公司（外商投资、未上市）
￥1.4918亿
2015-09-11
许开东
jinzhi.liu@leuven-instruments.com
邳州经济开发区辽河西路8号