芯测半导体
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晶圆级光学膜堆叠技术
在晶圆表面实现纳米级光学薄膜(AR/IR涂层)的真空沉积与图形化,突破性采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)结合反应离子刻蚀(RIE)的复合工艺,膜层厚度控制精度达±1.5nm(@550nm波长)
高精度光电参数测试系统
开发基于J750Ex测试平台的客制化测试程序,实现-40℃至125℃全温域下的光电参数并行测试。核心技术突破在于:1) 自适应暗电流补偿算法(补偿精度±0.05fA) 2) 量子效率(QE)测试的动态光源控制技术(波长精度±1nm)。
多光谱传感芯片封装集成
采用TSV(硅通孔)技术实现晶圆级红外截止滤光片(IRCF)与可见光/近红外(VIS/NIR)传感芯片的垂直集成,创新点在于晶圆级光学膜与半导体芯片的低温(<200°C)键合工艺,突破传统贴装方式的光学偏移限制(偏移量<1μm)。
CMOS影像传感器(CIS)晶圆级封装技术
基于晶圆级封装(Wafer Level Packaging, WLP)工艺,在CIS晶圆切割前完成光学膜堆叠、微透镜集成及电气互连。创新点在于超高精度的玻璃基板临时键合/解键合控制(键合强度>8MPa,解键合格率>99.8%)以及亚微米级(<0.5μm)的芯片间对准精度。
融资次数
3
员工数量
50-99人
专利数量
44
经营范围
半导体晶圆测试、切割、研磨、重组;半导体终端测试;半导体元件封装;软件开发;电子专用设备、测试仪器设计、制造、销售、维修;图形图像识别和处理系统研发;软件产品开发、生产;通信终端设备制造、模块设计及测试;智能消费设备制造、模块设计及测试;自营和代理各类货物或技术进出口业务(国家禁止或涉及行政审批的货物和技术进出口除外)。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)
主营业务
公司以CMOS影像感测器的封装和测试为核心业务,涵盖从制程到服务的全面解决方案,专注于光与感测相关半导体元件领域。
公司全称
合肥芯测半导体有限公司
公司类型
有限责任公司(港澳台投资、非独资)
注册资本
¥1,591万
成立时间
2020-05-27
法定代表人
刘家铭
电话
0551-62872778
邮箱
95502665@qq.com
网址
地址
安徽省合肥市经济技术开发区云二路176号云海路工业园A栋