化学气相沉积热场解决方案
基于碳化硅涂层石墨基材的气相沉积托盘及配件，为外延生长工艺提供耐高温、耐腐蚀的承载平台。采用CVD碳化硅梯度涂层技术，在保持高热导率的同时实现表面零孔隙率。
等离子刻蚀腔室耗材解决方案
提供高精度硅电极和硅环组件，应用于半导体刻蚀设备反应腔室。采用晶体取向控制技术制造，确保在强等离子体环境中保持尺寸稳定性和均一蚀刻特性，大幅减少颗粒污染。
高温硅熔体容器解决方案
基于高纯度合成石英坩埚产品，为半导体单晶硅生长提供耐高温、高稳定性的熔融硅容器。该解决方案通过先进熔融石英制造工艺，确保坩埚在1500°C以上高温环境中的结构完整性和低污染特性。
融资次数
4
员工数量
500-999人
专利数量
104
经营范围
许可项目：货物进出口；技术进出口（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）一般项目：电子专用材料研发；电子专用材料销售；电子专用材料制造；非金属矿及制品销售；非金属矿物制品制造；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广（除许可业务外，可自主依法经营法律法规非禁止或限制的项目）
主营业务
专注于半导体零部件耗材的研发、生产和销售，核心产品包括石英坩埚、硅部件材料、刻蚀用硅部件及气相沉积碳化硅部件，服务于半导体制造产业链的晶圆生长、刻蚀和沉积等关键环节。
宁夏盾源聚芯半导体科技股份有限公司
其他股份有限公司(非上市)
￥1.8714亿
2011-04-20
贺贤汉
0951-2019818
xiongh@sifusion.com.cn
银川经济技术开发区光明西路23号