气相沉积碳化硅部件
化学气相沉积（CVD）碳化硅制成的热场零部件，如舟皿、热场板、护罩等，用于半导体高温沉积工艺。这些部件在CVD或MOCVD设备中暴露于高温（超过1200°C）和腐蚀性气体环境，具有出色的热稳定性、高硬度（接近钻石级别）和化学惰性。产品能有效抵抗热疲劳和碳化，提供长期可靠的热场支持，适用于SiC外延、GaN生长等先进化合物半导体制造过程。
半导体刻蚀用硅部件
专门为等离子体刻蚀设备设计的硅制组件，如聚焦环、电极环、衬套等。这些部件在刻蚀腔室内直接与等离子体接触，需承受高能离子轰击和化学腐蚀环境。产品采用精密机械加工，确保纳米级尺寸精度和表面均匀性，可有效控制刻蚀工艺的均匀性和效率。材料具有极低的颗粒释放率，减少晶圆污染，广泛应用于逻辑电路和存储芯片的制造过程中。
半导体硅部件材料
包括高纯硅晶圆、硅环、硅盘等多种硅制零部件，用于半导体制造设备的腔室组件。产品采用单晶或多晶硅材料制造，具有极高的化学纯度和机械强度，杂质元素含量低于ppb级别，以满足半导体工艺对洁净度和可靠性的要求。主要应用于沉积、扩散等设备的衬底支撑结构，提供稳定的热导性和抗腐蚀性，延长设备维护周期。
半导体石英坩埚
高纯度合成石英坩埚，专为半导体单晶硅生长过程设计。其主要应用于晶体拉制炉中，具备优异的耐高温性能（可达1700°C以上）、高抗热震性、低杂质污染特性和长使用寿命，确保硅晶体生长的纯度和稳定性。产品采用精密加工工艺，表面光洁度高，可反复使用多次，适用于8英寸、12英寸晶圆生产线的硅材料制备环节。
融资次数
4
员工数量
500-999人
专利数量
104
经营范围
许可项目：货物进出口；技术进出口（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）一般项目：电子专用材料研发；电子专用材料销售；电子专用材料制造；非金属矿及制品销售；非金属矿物制品制造；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广（除许可业务外，可自主依法经营法律法规非禁止或限制的项目）
主营业务
专注于半导体零部件耗材的研发、生产和销售，核心产品包括石英坩埚、硅部件材料、刻蚀用硅部件及气相沉积碳化硅部件，服务于半导体制造产业链的晶圆生长、刻蚀和沉积等关键环节。
宁夏盾源聚芯半导体科技股份有限公司
其他股份有限公司(非上市)
￥1.8714亿
2011-04-20
贺贤汉
0951-2019818
xiongh@sifusion.com.cn
银川经济技术开发区光明西路23号