气相沉积碳化硅部件
研发、生产和销售用于化学气相沉积(CVD)设备的碳化硅基部件，如喷头、加热器等，应用于半导体薄膜沉积。该产品以高温耐受性和抗氧化性能著称，提升沉积均匀性和设备效率，服务于先进制程。
半导体刻蚀用硅部件
专业研发和生产耐腐蚀的高纯硅部件，如硅环、硅板等，专用于干法刻蚀腔体的等离子体环境。这些部件需具备优异的化学稳定性和机械强度，支持IC制造中的刻蚀工艺，确保器件的高精度和良率。
半导体硅部件材料
提供半导体级高纯度硅材料，包括硅片、硅靶等基础部件，用于制造半导体器件的前段工艺。这些材料需满足超高纯度标准和严格尺寸控制，服务于光刻、扩散等制程，是半导体制造的核心耗材。
半导体石英坩埚
研发、生产和销售用于半导体单晶硅生长的高纯度石英坩埚，该产品在晶圆制造中作为关键容器，确保熔融硅的高纯度和低杂质污染，支持集成电路的拉晶过程。产品需具备高温稳定性和长寿命特性，广泛应用于硅片生产线。
融资次数
4
员工数量
500-999人
专利数量
104
经营范围
许可项目：货物进出口；技术进出口（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）一般项目：电子专用材料研发；电子专用材料销售；电子专用材料制造；非金属矿及制品销售；非金属矿物制品制造；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广（除许可业务外，可自主依法经营法律法规非禁止或限制的项目）
主营业务
专注于半导体零部件耗材的研发、生产和销售，核心产品包括石英坩埚、硅部件材料、刻蚀用硅部件及气相沉积碳化硅部件，服务于半导体制造产业链的晶圆生长、刻蚀和沉积等关键环节。
宁夏盾源聚芯半导体科技股份有限公司
其他股份有限公司(非上市)
￥1.8714亿
2011-04-20
贺贤汉
0951-2019818
xiongh@sifusion.com.cn
银川经济技术开发区光明西路23号