设备改造服务
设备改造服务针对国外高端半导体设备进行硬件和软件的改造升级，包括结构优化、功能增强或系统集成。服务涉及设备再设计、添加新功能（如自动化模块）或调整以适应新工艺需求，延长设备寿命、提高兼容性和生产能力，同时降低客户的总体拥有成本（TCO）。
工艺升级服务
工艺升级服务专注于优化现有半导体设备的黄光制程流程，包括改进光阻涂布、显影或曝光参数。服务通过分析工艺数据，引入新技术和软件算法，提升设备效率、良率和产能，减少浪费和缺陷率，适用于老旧设备的性能翻新或新技术整合。
零件开发服务
芯米半导体提供针对国外高端半导体机型的零件开发服务，包括定制化设计、原型制作和生产组件。服务涵盖如机械部件、电子模块或光学元件的开发，基于客户设备需求进行逆向工程或创新设计，确保兼容性和性能优化，满足特定工艺要求。
光阻PUMP
光阻PUMP是一种专用于光阻材料传输的泵设备，在涂布过程中确保光阻液体的稳定和精确供给。它采用耐腐蚀材料设计，支持连续或脉冲式工作模式，防止气泡生成和材料降解，保证光阻输送的均匀性和一致性。该设备是高精度涂布系统的关键组件，直接影响到光阻层的质量和图案精度。
中央供酸系统
中央供酸系统是一种用于半导体黄光制程的化学品供应解决方案，集中管理并输送显影液、蚀刻液等酸性或碱性化学试剂。系统通过管道网络连接到工艺设备，实现化学品的自动化分配和控制，减少人工干预风险，确保化学试剂的纯度、流量和压力稳定，提高工艺的可重复性和安全性。
温湿度控制机
温湿度控制机是半导体制造环境的配套设备，用于精确调控工艺腔室内的温度和湿度条件。在黄光制程中，它确保光阻涂布和显影过程的环境稳定性，防止因温度或湿度变化导致的光阻性能偏移，从而提高晶圆制造的良率和一致性。设备集成传感器和控制系统，实现实时监控和自动调整。
涂布显影设备系列
涂布显影设备（Coater and Developer）用于半导体晶圆制造黄光制程，主要包括涂布机（Coater）和显影机（Developer）。涂布机负责在晶圆表面均匀涂布光阻材料，形成光刻胶层；显影机则通过化学处理将曝光后的光阻进行显影，实现图案化过程。这些设备是高精度半导体制造的关键组成部分，确保光阻涂布厚度和显影效果的一致性，适用于先进工艺节点。
融资次数
3
员工数量
小于50人
专利数量
75
经营范围
半导体分立器件制造；电子工业专用设备制造；集成电路制造；光电子器件及其他电子器件制造；其他电子设备制造；经营各类商品和技术的进出口（不另附进出口商品目录），但国家限定公司经营或禁止进出口的商品及技术除外；机器人及智能设备的设计、研发、制造及销售（不含须经许可审批的项目）；集成电路设计；信息技术咨询服务；软件开发。
主营业务
半导体涂布显影设备及相关配套设备的设计、制造、销售与技术服务
芯米（厦门）半导体设备有限公司
有限责任公司（港澳台投资、非独资）
￥3,051万
2019-01-29
吴永胜
15880235078
chenchunrui@ximisemi.com
厦门火炬高新区软件园三期诚毅北大街62号209单元0206号