产品&解决方案
芯三代公司研发的SiC-CVD设备专门用于碳化硅（SiC）晶圆的化学气相沉积生长过程，该设备通过将工艺与硬件深度结合，实现高效的控制机制，包括温场优化设计和流场稳定设计，以支持自动化批量生产。
芯三代的SiC-CVD设备是其核心产品，专为第三代半导体碳化硅（SiC）晶圆的外延生长而设计。该设备采用先进的温场控制技术，确保沉积过程中温度分布的均匀性，提高晶圆的质量和成品率。同时，通过流场控制设计，优化了气体流动路径和反应气体分布，减少颗粒污染和缺陷产生。在性能上，设备支持高产能操作，可处理大量晶圆生产；兼容6英寸和8英寸晶圆，提供生产灵活性；拥有优化后的拥有成本（CoO），通过高效能耗管理降低运营开销；支持长时间多炉数的连续自动生长控制，实现不间断批量生产；具备低缺陷率特性，减少晶圆报废率；采用模块化设计，便于维护和升级；整体可靠性高，确保设备长期稳定运行。这些设计特点使该设备在半导体制造中具有竞争力，尤其适用于SiC功率器件制造领域。
融资次数
6
员工数量
50-99人
专利数量
86
公司简介
芯三代成立于2020年，致力于研发生产半导体相关专业设备，目前聚焦于第三代半导体SiC-CVD装备。该公司将工艺和设备紧密结合研发的SiC-CVD设备通过温场控制、流场控制等方面的设计，在高产能、6/8英寸兼容、CoO成本、长时间多炉数连续自动生长控制、低缺陷率、维护便利性和可靠性等方面都具有明显的优势。
经营范围
一般项目：工程和技术研究和试验发展；半导体器件专用设备制造；半导体器件专用设备销售；专用设备制造（不含许可类专业设备制造）；半导体分立器件销售；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；机械设备租赁；非居住房地产租赁；货物进出口；技术进出口；进出口代理（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）
主营业务
研发和生产高性能的SiC-CVD设备，应用于第三代半导体材料（如碳化硅）的制造过程，以提升半导体设备的效率和质量。
芯三代半导体科技（苏州）有限公司
股份有限公司(非上市、自然人投资或控股)
￥6,000万
2020-09-23
施建新
13818193525
shiwushi@sicentury.com
中国（江苏）自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区苏慕路104号S栋