晶圆套刻误差精测技术
该技术采用衍射光栅和光学干涉法，结合精密的图像对准算法，实现多层光刻图案套刻误差的亚纳米级测量。创新点在于专有光源设计（如使用可调谐激光器）和实时校准系统，通过动态补偿环境扰动（如振动和热漂移），提供高重复精度和稳定性。集成自适应学习模块，可快速识别套刻偏差并生成修正信号。
晶圆表面缺陷光学检测技术
此技术基于先进的暗场光学成像系统，结合高速扫描机制和实时数据压缩算法，专为晶圆表面微粒、划痕及微裂纹的检测设计。创新点在于利用衍射光学元件（DOE）增强光路效率，通过多角度照明和AI辅助的缺陷分类器，实现全自动的高吞吐量检测。系统支持亚纳米分辨率，并整合了温度和环境补偿模块，确保在不同工艺条件下稳定运行。
高分辨率掩模缺陷检测技术
该技术采用专有的深紫外（DUV）光学系统和高灵敏度传感器，结合基于深度学习的图像处理算法，实现亚微米级缺陷的自动识别。其创新点在于融合多模态成像技术（如暗场和明场成像），通过实时校准机制降低噪声干扰，并在算法中集成了自适应阈值设置，可准确检测掩模版的图案缺失、污染等缺陷。
融资次数
4
员工数量
50-99人
专利数量
34
经营范围
一般项目：技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；软件开发；软件销售；半导体器件专用设备制造；机械电气设备制造；半导体器件专用设备销售；机械电气设备销售；光学仪器制造；光学仪器销售；其他专用仪器制造；仪器仪表制造；仪器仪表销售；专用设备制造（不含许可类专业设备制造）；电子测量仪器制造；电子测量仪器销售；光伏设备及元器件制造；光伏设备及元器件销售（除许可业务外，可自主依法经营法律法规非禁止或限制的项目）许可项目：货物进出口；技术进出口（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）
主营业务
为集成电路制造提供先进的前道量检测装备，聚焦光学量检测系统的设计、集成与制造，涵盖掩模版检测、晶圆检测、泛半导体检测及晶圆测量四大领域。
合肥御微半导体技术有限公司
其他有限责任公司
￥1,666万
2021-07-01
刘浩
0551-65116087
chencj@yuweitk.com
安徽省合肥市高新区华佗巷469号品恩科技园1号楼