气体质量流量计
气体质量流量计作为关键控制单元，用于精确监测和调节流入工艺反应室的气体流量。设备采用热传感或压差原理提供高精度、低误差的流量控制，确保薄膜沉积或刻蚀过程的均匀性、可重复性，广泛应用于CVD、刻蚀等系统。
清洗设备
清洗设备用于在半导体制造各阶段去除晶圆表面污染物（如颗粒、有机物或金属离子），方法包括湿法清洗（使用酸性或碱性溶液）和干法清洗（如等离子或紫外线清洗）。设备配备自动化处理和纯水系统，确保高清洁度、减少缺陷，提高器件良率和可靠性。
氧化/扩散设备
氧化设备在高温环境中促进硅与氧气反应形成二氧化硅绝缘层，用于隔离晶体管结构；扩散设备通过热处理将掺杂剂（如硼、磷）引入硅晶圆中，实现区域杂质分布控制以优化电性能。这些设备包括管式炉或立式炉系统，精确调控温度曲线和气体流动，适用于掺杂和表面处理过程。
CVD设备
CVD设备（化学气相沉积设备）利用气体反应在晶圆表面沉积薄膜材料，如多晶硅、二氧化硅、氮化硅或金属薄膜。设备涉及热壁或冷壁反应室，通过控制温度、压力和气体混合物实现不同结构的薄膜生长，用于绝缘层、导体层或保护层，提高半导体器件的可靠性和性能。
PVD设备
PVD设备（物理气相沉积设备）在真空环境下通过蒸发或溅射等方法沉积金属或合金薄膜到晶圆表面，例如用于形成互连层（如铜、铝）、阻障层或封装材料。设备采用高精度控制系统确保薄膜的厚度、均匀性和附着力，适用于高性能、低电阻需求的应用场景。
刻蚀设备
刻蚀设备用于半导体制造中移除晶圆表面不需要的材料以实现电路结构，主要包括湿法刻蚀和干法刻蚀（如反应离子刻蚀或等离子刻蚀）技术。这些设备通过化学或物理方法精确控制移除过程，确保形成的图案尺寸和形状满足集成电路设计要求，常用于创建互连层、隔离区域或微细结构。
融资次数
1
员工数量
5000-9999人
经营范围
一般项目：电子专用设备制造；机械设备研发；通用设备制造（不含特种设备制造）；机械设备销售；电子专用设备销售；机械零件、零部件加工；机械零件、零部件销售；通用零部件制造；软件销售；软件开发；信息技术咨询服务；销售代理；通用设备修理；专用设备修理；电子、机械设备维护（不含特种设备）；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；租赁服务（不含许可类租赁服务）；互联网销售（除销售需要许可的商品）；货物进出口；技术进出口；物业管理；非居住房地产租赁；停车场服务。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）（不得从事国家和本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）
主营业务
研发、制造和销售高端半导体工艺装备及核心零部件，覆盖集成电路、功率器件、先进封装、光伏等多个领域，提供一体化解决方案。
北京北方华创微电子装备有限公司
有限责任公司(法人独资)
2001-10-25
董博宇
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