电化学电镀设备（ECP）
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产品详情
盛美上海的电化学电镀设备用于铜、镍及贵金属的电镀沉积，主要应用于先进半导体器件的铜互连工艺。该设备具备高均匀性电镀能力，支持高深宽比结构的填充（如TSV和微孔），通过精密控制电流密度和化学液配方实现薄膜厚度均一化，满足14nm及以下制程节点的技术要求。
融资次数
5
员工数量
1000-4999人
公司简介
盛美半导体设备（上海）股份有限公司是一家注册于中国上海张江高科技园区的，具备世界领先技术的半导体设备制造商，是中国一家专注于集成电路制造产业中电镀铜设备，抛铜设备，单晶圆清洗设备的研发及生产公司。
经营范围
一般项目：半导体器件专用设备制造；电子专用设备制造；机械零件、零部件加工；半导体器件专用设备销售；电子专用设备销售；专用设备修理；专业设计服务；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；货物进出口；技术进出口。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）
盛美半导体设备（上海）股份有限公司
股份有限公司(外商投资、上市)
￥4.4129亿
2005-05-17
HUI WANG
021-50808868
chanyu.wang@acmrcsh.com
中国（上海）自由贸易试验区丹桂路999弄5、6、7、8号全幢