光伏电镀铜曝光技术
专为光伏应用设计，将光刻曝光与电镀铜工艺集成于单机系统中，创新点在于优化光源参数（如波长和强度）并采用非真空电镀方法，实现高效电极形成和成本控制。
双面套刻对准技术
利用多轴光学对准系统和软件算法实现晶圆正反面的同步对齐，创新点在于引入动态误差补偿和机器学习优化算法，确保双面图案的精确注册和重叠。
全自动接近式光刻技术
基于精密机械臂和实时反馈控制系统，实现晶圆与掩模的自动对齐和精确间隙控制，创新点在于采用非接触式传感器和高频振动补偿机制，提升套刻精度至亚微米级别。
UVLED平行光源技术
该技术采用高效紫外LED阵列实现高均匀性的平行光照明系统，创新点在于集成热管理系统和光谱可调节设计，减少光刻过程中的热畸变和波动，确保高分辨率曝光。
融资次数
1
员工数量
小于50人
专利数量
9
经营范围
一般项目：工程和技术研究和试验发展；电子专用设备制造；标准化服务；软件开发；电工仪器仪表制造；电工仪器仪表销售；仪器仪表销售；半导体器件专用设备制造；半导体器件专用设备销售；电子专用设备销售；电子测量仪器制造；专用设备制造（不含许可类专业设备制造）；电子测量仪器销售；货物进出口；技术进出口（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）
主营业务
公司主营业务是研发、制造和销售智能高速光刻设备及其相关解决方案，主要服务于半导体晶圆加工和太阳能电池制造行业，产品涵盖自动化光刻机、曝光机等核心设备。
苏州中特微电子科技有限公司
有限责任公司(自然人投资或控股)
￥542万
2021-09-01
林世超
0577-65029888
苏州市吴江区江陵街道交通路1188号