化学气相薄膜沉积解决方案
该解决方案利用中微公司的化学薄膜设备，如高介电常数薄膜沉积设备，通过化学气相沉积（CVD）技术实现高质量薄膜的沉积。设备涵盖原子层沉积（ALD）模块，支持高温和低温工艺，用于沉积金属、介电质和功能材料层。该系统提供全面的工艺参数控制和在线缺陷检测，确保薄膜厚度均匀性和膜质稳定性，满足高端半导体器件的性能要求。
高级等离子体刻蚀解决方案
该解决方案基于中微公司开发的Primo系列等离子体刻蚀设备，包括电容耦合等离子体（CCP）和电感耦合等离子体（ICP）刻蚀机。这些设备专门用于集成电路制造中的关键刻蚀步骤，提供微米级和纳米级的高精度工艺控制，适用于硅、硅化物及介质材料的刻蚀。核心技术包括实时参数监控和智能反馈系统，确保在复杂器件生产中实现一致性和可重复性。
A股代码
688012.SH
员工数量
100-499人
专利数量
1357
经营范围
研发、组装集成电路设备、泛半导体设备和其他微观加工设备及环保设备，包括配套设备和零配件，销售自产产品。提供技术咨询、技术服务。【不涉及国营贸易管理商品，涉及配额、许可证管理商品的，按照国家有关规定办理申请；依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】。
主营业务
中微公司的主营业务是研发、制造和销售等离子体刻蚀设备与化学薄膜设备，并为全球集成电路及泛半导体行业提供相关的高质量服务，专注于高端微观加工设备的供应和技术支持。
中微半导体设备（上海）股份有限公司
股份有限公司(中外合资、上市)
￥6.1928亿
2004-05-31
尹志尧（GERALD ZHEYAO YIN）
021-61001199
ir@amecnsh.com
上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号