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中微公司
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化学薄膜沉积技术
中微公司的化学薄膜设备基于化学气相沉积(CVD)技术,通过创新性的预热区设计和精确的气体分布系统,实现薄膜厚度的纳米级控制。创新点包括多区温度控制机制和原位监控技术,确保沉积均匀性和膜层质量,支持高k介电层和金属互连层的沉积。
等离子体刻蚀技术
中微公司的等离子体刻蚀设备采用创新的电感耦合等离子体(ICP)源技术和高深宽比刻蚀工艺,实现纳米级精确控制。创新点包括独特的反应腔室设计、实时等离子体诊断系统和自适应过程控制算法,确保刻蚀均匀性和选择性,适用于复杂微观结构的制造,支持5纳米及以下先进节点。
A股代码
688012.SH
员工数量
100-499人
专利数量
1357
经营范围
研发、组装集成电路设备、泛半导体设备和其他微观加工设备及环保设备,包括配套设备和零配件,销售自产产品。提供技术咨询、技术服务。【不涉及国营贸易管理商品,涉及配额、许可证管理商品的,按照国家有关规定办理申请;依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动】。
主营业务
中微公司的主营业务是研发、制造和销售等离子体刻蚀设备与化学薄膜设备,并为全球集成电路及泛半导体行业提供相关的高质量服务,专注于高端微观加工设备的供应和技术支持。
公司全称
中微半导体设备(上海)股份有限公司
公司类型
股份有限公司(中外合资、上市)
注册资本
¥6.1928亿
成立时间
2004-05-31
法定代表人
尹志尧(GERALD ZHEYAO YIN)
电话
021-61001199
邮箱
ir@amecnsh.com
地址
上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号