擦片机
擦片机是芯源微的设备之一，主要用于晶圆表面的擦拭清洁和抛光。设备通过旋转刷头或布擦拭技术，有效去除表面颗粒、氧化物残留或污染层，适用于晶圆封装前的准备工序或后道工艺的表面处理。其设计可实现软接触以保护晶圆表面完整性。
单片清洗机
单片清洗机用于晶圆表面的高精度清洗，去除颗粒、污染物和残留化学物。设备采用旋转喷淋技术，结合去离子水或化学试剂，实现单晶圆逐一清洗。芯源微的单片清洗机具有实时监测系统（如颗粒计数），适用于先进制程中要求极高的清洁度和良率提升。
湿法刻蚀机
湿法刻蚀机利用化学溶液蚀刻晶圆表面的特定材料层。设备提供可控的溶液循环和浓度管理，实现高选择性刻蚀（如用于二氧化硅或金属层的去除）。芯源微的产品支持单片或批量处理模式，配备自动传输系统，确保蚀刻深度和均匀性的高精度控制。
去胶机
去胶机（又称剥离机）用于在半导体制程中去除残余光刻胶。设备通过湿法或干法化学处理（如使用溶剂或等离子体），高效清除刻蚀或离子注入后残留的光刻胶层。芯源微的去胶机具有精确的温度和清洗时间控制系统，能减少晶圆损伤并提高生产效率。
喷胶机
喷胶机是芯源微的专用设备，用于在特定工艺中喷涂光刻胶或其他功能性涂层材料。设备采用高压喷射技术，实现晶圆表面的快速、均匀涂层，适用于非标准应用如晶圆边缘处理或特殊材料涂布。其设计具有可编程参数（如喷嘴压力和喷射角度），以定制化满足不同客户的工艺要求。
显影机
显影机用于在光刻曝光后进行图像的显影处理。设备通过自动喷淋显影液溶解并去除未曝光区域的光刻胶，形成精确的电路图案。芯源微的显影机支持高精度流量和温度控制，确保显影过程的高均匀性和低缺陷率，适用于先进半导体制造中的高分辨率要求。
涂胶机
涂胶机是芯源微的核心产品之一，用于在半导体晶圆表面均匀涂覆光刻胶。设备通过高速旋转晶圆，配合精确的涂胶喷嘴，实现微米级厚度控制的光刻胶薄膜涂布。其设计适用于各种尺寸晶圆（如8英寸和12英寸），能提供高均匀性和稳定性，以满足先进制程的光刻需求。
A股代码
688037.SH
员工数量
500-999人
专利数量
547
经营范围
集成电路的生产设备和测试设备及其他电子设备的开发研制、生产与销售，承接相关设备安装工程、技术服务；自营和代理各类商品和技术的进出口业务（国家限定公司经营或禁止进出口的业务除外）。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动。）
主营业务
半导体生产设备的研发、生产、销售与相关技术服务，专注于涂胶显影、湿法刻蚀和清洗等前道制程设备领域，为客户提供定制化工艺解决方案。
沈阳芯源微电子设备股份有限公司
其他股份有限公司(上市)
￥9,262万
2002-12-17
宗润福
024-89628888
wanghao@kingsemi.com
辽宁省沈阳市浑南区飞云路16号