SiC/GaN外延生长设备
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产品详情
为第三代半导体材料（碳化硅SiC和氮化镓GaN）提供高性能的外延生长设备，采用高温化学气相沉积（HT-CVD）技术，支持6-8英寸晶圆量产工艺，满足高均匀性、低缺陷率的材料生长需求。
融资次数
1
公司简介
一塔半导体（安徽）有限公司专注于宽禁带半导体先进制程设备的研发和生产，是一家集研发、生产、销售于一体的综合性科技企业，一塔半导体（ETA-Semitech）拥有两大产研基地，分别位于合肥经济技术开发区和德清浙工大科技园（瑶光半导体（浙江）有限公司）。
主营业务
专注于研发、生产和销售宽禁带半导体先进制程设备的综合性科技企业
一塔半导体（安徽）有限公司
其他有限责任公司
￥613万
2024-02-05
王涛
安徽省合肥市经济技术开发区云二路176号珠江路科技园B栋一层南侧103室