高精度光刻掩模制造技术
收藏
已收藏
产品详情
基于半导体光刻工艺，成都路维光电的核心技术聚焦于精密光掩模板的设计与生产。该技术采用先进的薄膜沉积（如铬膜或相移膜材料）和纳米级图形刻蚀工艺，实现图案转移的高分辨率和低缺陷率，以支持先进制程节点。创新点体现在使用人工智能辅助设计软件（EDA）优化图案布局，提升掩模板的精度和产率，同时减少生产周期。