产品&解决方案
基于半导体光刻工艺，成都路维光电的核心技术聚焦于精密光掩模板的设计与生产。该技术采用先进的薄膜沉积（如铬膜或相移膜材料）和纳米级图形刻蚀工艺，实现图案转移的高分辨率和低缺陷率，以支持先进制程节点。创新点体现在使用人工智能辅助设计软件（EDA）优化图案布局，提升掩模板的精度和产率，同时减少生产周期。
专注于计算机软件和硬件的研究、设计、开发及测试，包括操作系统、应用软件、嵌入式系统及硬件设备优化等领域，服务于信息技术（IT）和自动化产业。
涉及电子产品的研发、生产和销售活动，涵盖消费类电子、工业控制设备等多种产品类别，具体业务细节未在公开可查资料中详述，但属于公司简介中提到的经营范围。
该公司主要经营光刻掩模板的制造业务。光刻掩模板是半导体光刻工艺中的关键设备，用于将微细电路图案精确转移到晶圆表面，广泛应用于集成电路（IC）和平面显示（FPD）制造领域，服务于半导体工业链。