泛半导体流体调控器件与系统
这些产品包括高纯流体控制阀、压力传感器、流量计及微流控模块等器件和系统。设计用于半导体制造工艺中的化学液体输送、气体注入和流体精度调控，材料兼容高腐蚀性环境（如酸、碱液）。功能上，能实现毫秒级响应、纳米级定位精度，确保流体流动均匀稳定，减少缺陷。典型应用包括蚀刻、化学机械抛光（CMP）和清洗工站，提升制程稳定性和产出质量。
高端光刻机浸液系统
该系统是用于光刻机浸没式技术的核心组件，包括浸没头（Immersion Head）、液膜维持装置和温控单元。其主要功能是在光刻过程中形成并维持稳定的液体膜层（通常为去离子水或特殊浸没液体），通过精密流体动态控制，减少气泡干扰，确保超高分辨率曝光（例如低于10纳米节点）。应用场景包括高精度半导体晶圆制造，以提高光刻精度、良率和生产效率。该系统支持集成到ASML等主流光刻机平台中。
融资次数
4
员工数量
100-499人
专利数量
116
经营范围
一般项目：机械设备研发；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；半导体器件专用设备制造；半导体器件专用设备销售；仪器仪表制造；仪器仪表销售；泵及真空设备销售；泵及真空设备制造；机械零件、零部件销售；机械零件、零部件加工；机械设备销售(除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动)。许可项目：技术进出口；货物进出口(依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以审批结果为准)。
主营业务
高端光刻机浸液系统的研发与生产
浙江启尔机电技术有限公司
有限责任公司(自然人投资或控股)
￥3,056万
2013-05-24
陈文昱
61106990
cheertech@cheertech.ltd
浙江省杭州市临安区青山湖街道励新路99号