高性能金属合金溅射靶材技术
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产品详情
专注于钛、钼、铝、铜等金属及多元合金（如镍钨、钛铝）靶材的制备，核心技术包括粉末冶金热等静压（HIP）和真空熔炼工艺，实现高纯度（纯度＞99.995%）、低杂质含量（如氧含量＜100ppm），并通过微观结构调控提高溅射性能和膜层附着力。创新点在于复合靶材设计（如镍钨钽合金），优化溅射离子分布速率，解决高温高腐蚀环境下的稳定性问题，适用于高端电子和磁记录应用。
融资次数
6
员工数量
小于50人
专利数量
44
公司简介
先导电子科技股份有限公司成立于2017-07-12，注册地址为徐州高新技术产业开发区五环路北、同创路西,先导南路1号，法定代表人为朱刘，经营范围包括平板及旋转氧化铟锡靶材（IT0靶材）、IT0蒸发材料及中间产品氧化铟、氢氧化铟、IT0粉末、IT0丸、铟、锡、硅、钨、铬、镍、钽、二氧化钛、硅铝、锡铟、锌铝、镍钨、镍钨钽、镍铬合金化合物靶材等大面积镀膜材料、铜铟镓硒、碲化镉、碲镉锌硒多元化合物等薄膜太阳能材料及靶材、钌、镍铂、铬钴铂硼等磁存储记录功能材料及靶材、钛、钼、铝、铜等大面积镀膜用金属材料及靶材、金、银、铂等贵金属蒸镀材料及靶材研发、生产、销售及回收。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）
经营范围
平板及旋转氧化铟锡靶材（IT0靶材）、IT0蒸发材料及中间产品氧化铟、氢氧化铟、IT0粉末、IT0丸、铟、锡、硅、钨、铬、镍、钽、二氧化钛、硅铝、锡铟、锌铝、镍钨、镍钨钽、镍铬合金化合物靶材等大面积镀膜材料、铜铟镓硒、碲化镉、碲镉锌硒多元化合物等薄膜太阳能材料及靶材、钌、镍铂、铬钴铂硼等磁存储记录功能材料及靶材、钛、钼、铝、铜等大面积镀膜用金属材料及靶材、金、银、铂等贵金属蒸镀材料及靶材研发、生产、销售及回收。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）
主营业务
专注于高端功能性薄膜材料及靶材的研发、生产、销售和回收，服务于显示、光伏、磁存储、电子镀膜等高科技产业。
先导电子科技股份有限公司
股份有限公司(非上市)
￥4.779亿
2017-07-12
朱刘
18949832566
yuandong.huang@vitalchem.com
徐州高新技术产业开发区五环路北、同创路西，先导南路1号