金属蒸镀材料及靶材
包括钛、钼、铝、铜等大面积金属蒸发材料，用于溅射或电子束蒸发工艺，在光伏、半导体封装和建筑玻璃领域形成保护性薄膜，具有良好的导电性、热稳定性和环保特性（如低挥发性有机化合物排放）。
磁存储记录功能材料靶材
如钌、镍铂、铬钴铂硼等磁存储溅射靶材，用于在硬盘驱动器（HDD）中沉积磁性薄膜层，实现高密度数据存储。具有稳定的磁性能和抗热衰退特性，适用于数据存储设备和新型磁随机存取存储器（MRAM）。
贵金属蒸镀材料
包括金、银、铂等贵金属蒸发材料，用于真空蒸发镀膜工艺，形成薄膜层应用于装饰涂层、电子封装（如引线框架）、感光元件和高级光学薄膜。高纯度（>99.95%）保证涂层均匀性和耐腐蚀性，适用于微电子和精密仪器制造。
铜铟镓硒靶材
铜铟镓硒（CIGS）溅射靶材，是薄膜太阳能电池的核心制造材料，用于溅射工艺中在基板上沉积半导体吸收层，具有高效率（转换率可达20%以上）和低制造成本的优势，主要应用于建筑一体化光伏（BIPV）和柔性太阳能模块。
平板氧化铟锡靶材
氧化铟锡（ITO）溅射靶材，通过物理气相沉积（PVD）工艺在基板上形成透明导电膜，具有高电导率和透光率，广泛应用于液晶显示器（LCD）、触摸屏（Touch Panel）、有机发光二极管（OLED）屏幕等电子设备中。产品可制成平板或旋转形状，适用于大面积镀膜设备。
融资次数
6
员工数量
小于50人
专利数量
44
经营范围
平板及旋转氧化铟锡靶材（IT0靶材）、IT0蒸发材料及中间产品氧化铟、氢氧化铟、IT0粉末、IT0丸、铟、锡、硅、钨、铬、镍、钽、二氧化钛、硅铝、锡铟、锌铝、镍钨、镍钨钽、镍铬合金化合物靶材等大面积镀膜材料、铜铟镓硒、碲化镉、碲镉锌硒多元化合物等薄膜太阳能材料及靶材、钌、镍铂、铬钴铂硼等磁存储记录功能材料及靶材、钛、钼、铝、铜等大面积镀膜用金属材料及靶材、金、银、铂等贵金属蒸镀材料及靶材研发、生产、销售及回收。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）
主营业务
专注于高端功能性薄膜材料及靶材的研发、生产、销售和回收，服务于显示、光伏、磁存储、电子镀膜等高科技产业。
先导电子科技股份有限公司
股份有限公司(非上市)
￥4.779亿
2017-07-12
朱刘
yuandong.huang@vitalchem.com
徐州高新技术产业开发区五环路北、同创路西，先导南路1号