产品&解决方案
该解决方案基于匠岭半导体的光学缺陷检测机台，通过光学显微成像或暗场照明技术，用于检测晶圆表面和内部的缺陷，包括颗粒污染、图案缺陷和微观裂纹。适用于生产在线监控，提供详细的缺陷分类和定位信息，以提升整体良率。
该解决方案基于匠岭半导体的光学线宽量测机台，采用散射法或成像技术（如光学CD-SEM辅助方法），用于精确测量半导体图案的关键尺寸（CD）包括线条宽度、间距和侧壁角。聚焦于图案化过程的质量控制，帮助检测线宽偏差并及时调整光刻参数。
该解决方案基于匠岭半导体的光学薄膜量测机台，利用高精度光谱椭偏技术或干涉测量方法，用于实时测量半导体晶圆上薄膜的厚度、折射率和消光系数。主要服务于晶圆制造过程中的薄膜沉积环节，确保工艺参数符合设计要求并提升良率。
根据公开信息，匠岭半导体已将其薄膜量测、关键尺寸量测及缺陷检测的核心光学技术平台扩展到化合物半导体（如氮化镓GaN、碳化硅SiC）领域，提供针对这些特殊材料特性优化的量测与检测设备，以满足第三代半导体器件的制造需求。
采用高灵敏度光学成像及图像处理技术，用于在线检测晶圆表面及亚表面缺陷，包括颗粒污染（Particles）、残留物（Residues）、划痕（Scratches）以及图形缺陷（Pattern Defects）。系统具备高通量和快速全片扫描能力，服务于制程监控和良率提升。
利用散射测量术（Scatterometry）或成像测量术，对半导体器件中的关键几何尺寸（CD - Critical Dimension）、侧壁角（SWA - Side Wall Angle）以及套刻误差（Overlay）进行非接触、无损的高精度量测。适用于光刻后及刻蚀后的图形化结构特征监控。
用于精确测量半导体制造过程中晶圆表面薄膜的厚度（Thickness）、折射率（Refractive Index n）和消光系数（Extinction Coefficient k）。基于先进的宽光谱反射测量术或椭圆偏振测量术，支持从先进逻辑到存储芯片等关键工艺的薄膜质量控制，满足高精度与高重复性要求。
融资次数
4
员工数量
小于50人
专利数量
13
公司简介
匠岭半导体从事半导体光学量测和检测装备的研发、制造和销售； 主要产品涵盖半导体光学薄膜量测机台、半导体光学线宽量测机台，半导体光学缺陷检测机台等。
经营范围
一般项目：技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；半导体器件专用设备销售；电子元器件与机电组件设备销售；软件销售；软件开发；电子产品销售；货物进出口；技术进出口。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）
主营业务
半导体光学量测和检测装备的研发、制造和销售，提供高精度的光学量测解决方案，服务于集成电路制造环节，以确保产品质量和生产效率。
匠岭科技（上海）有限公司
有限责任公司(自然人投资或控股)
￥3,623万
2019-03-04
蒋俭威
021-58206606
79403682@qq.com
中国（上海）自由贸易试验区临港新片区环湖西二路888号C楼