产品&解决方案
艾微普开发的新型PVD和RIE设备专用于新能源器件，如太阳能电池和燃料电池的制造，通过优化涂层和蚀刻工艺，提升器件效率和耐用性。方案整合了环境控制技术，减少生产废弃物。
艾微普针对MEMS（微机电系统）制造提供完整的设备集成服务，包括PVD沉积和IBE蚀刻的组合系统，支持从晶圆准备到最终封装的自动化流程。该方案利用模块化设计，适应高灵敏度器件的生产需求。
艾微普的RIE（反应离子蚀刻）设备用于基于等离子体的化学蚀刻过程，适用于半导体和新能源器件的批量生产。该系统优化了气体配比和射频功率控制，提升蚀刻速率和选择性。
艾微普的IBE（离子束蚀刻）设备用于高精度蚀刻半导体和MEMS器件，通过离子束轰击实现纳米级图案定义和表面处理。该方案集成了实时监控系统，确保蚀刻深度和精度控制在亚微米级别。
艾微普提供的PVD（物理气相沉积）设备用于在半导体晶圆表面沉积金属或非金属薄膜，支持高精度涂层工艺。该系统采用先进的等离子体控制和材料溅射技术，确保薄膜均匀性和附着力，适用于大规模生产环境。
反应离子刻蚀（RIE）设备，结合物理溅射和化学反应，实现硅、介质层、化合物半导体等多种材料的高深宽比、高各向异性刻蚀。广泛应用于CMOS、MEMS器件制造中的图形转移工艺，尤其适合先进逻辑/存储芯片及微机械结构的刻蚀需求。
离子束刻蚀（IBE）设备，适用于对刻蚀精度、侧壁角度和材料选择性要求极高的半导体、MEMS及光电器件制造。通过聚焦离子束实现纳米级精度的各向异性刻蚀，常用于加工磁性传感器、III-V族化合物半导体等精密结构。
物理气相沉积（PVD）设备，用于半导体、MEMS和新能源器件制造过程中的薄膜沉积。主要应用于硬盘磁头、半导体金属化层等精密镀膜工艺，特点是高均匀性、优异台阶覆盖能力和低颗粒污染，满足先进器件制造需求。
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融资次数
1
员工数量
小于50人
专利数量
29
公司简介
艾微普 公司的核心技术和产品包括PVD、IBE、RIE等系列半导体、MEMS、新能源器件制造专用设备。公司凭借专业优势与出色的服务，在国际赢得声誉，产品广泛应用于半导体、硬盘、MEMS、等行业，是全球领先的半导体公司西部数据、AVAGO、TDK、LUMENTUM、华虹宏力等著名企业的战略供应商，合作伙伴。
经营范围
集成电路设备、泛半导体设备、光伏设备、TFT 设备、真空设备、锂离子电池设备、电子元器件研发、组装、生产、销售。泛半导体设备、新能源设备、真空设备制造技术，半导体及微电子器件工艺，半导体材料、功能材料技术的技术咨询，技术开发，技术转让，技术服务。经营本企业自产产品的出口业务和企业生产所需原辅材料机械设备、零配件及技术进口业务（国家限制或禁止的除外；涉及前置审批的除外）（列入外商投资准入特别管理措施清单内的项目除外）（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）
主营业务
研发、生产和销售半导体、MEMS及新能源器件制造专用设备。
浙江艾微普科技有限公司
有限责任公司（外商投资、非独资）
$184万
2019-10-09
YUNJUN TANG
0573-87023995
sales@avptec.com
浙江省嘉兴市海宁市海昌街道芯中路6号1幢