RIE系列设备
反应离子刻蚀（RIE）设备，结合物理溅射和化学反应，实现硅、介质层、化合物半导体等多种材料的高深宽比、高各向异性刻蚀。广泛应用于CMOS、MEMS器件制造中的图形转移工艺，尤其适合先进逻辑/存储芯片及微机械结构的刻蚀需求。
IBE系列设备
离子束刻蚀（IBE）设备，适用于对刻蚀精度、侧壁角度和材料选择性要求极高的半导体、MEMS及光电器件制造。通过聚焦离子束实现纳米级精度的各向异性刻蚀，常用于加工磁性传感器、III-V族化合物半导体等精密结构。
PVD系列设备
物理气相沉积（PVD）设备，用于半导体、MEMS和新能源器件制造过程中的薄膜沉积。主要应用于硬盘磁头、半导体金属化层等精密镀膜工艺，特点是高均匀性、优异台阶覆盖能力和低颗粒污染，满足先进器件制造需求。
融资次数
1
员工数量
小于50人
专利数量
29
经营范围
集成电路设备、泛半导体设备、光伏设备、TFT 设备、真空设备、锂离子电池设备、电子元器件研发、组装、生产、销售。泛半导体设备、新能源设备、真空设备制造技术，半导体及微电子器件工艺，半导体材料、功能材料技术的技术咨询，技术开发，技术转让，技术服务。经营本企业自产产品的出口业务和企业生产所需原辅材料机械设备、零配件及技术进口业务（国家限制或禁止的除外；涉及前置审批的除外）（列入外商投资准入特别管理措施清单内的项目除外）（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）
主营业务
研发、生产和销售半导体、MEMS及新能源器件制造专用设备。
浙江艾微普科技有限公司
有限责任公司（外商投资、非独资）
$184万
2019-10-09
YUNJUN TANG
sales@avptec.com
浙江省嘉兴市海宁市海昌街道芯中路6号1幢