光刻相关咨询
提供光刻技术、掩模设计及应用的专业咨询服务，包括工艺优化建议和技术支持，协助客户提升良率和制程效率。
光掩模去膜修补和清洗
移除光掩模上的多余涂层或保护膜、修复微小损伤部位，并进行深度清洗处理，以恢复其功能性能并延长使用寿命。
定期品质检测
对光掩模进行定期质量监控和性能测试，包括缺陷扫描、尺寸精度测量等，确保其符合严格的行业标准，适用于光刻工艺。
光掩模保护膜贴膜
为光掩模表面添加专用保护膜，防止物理损伤和环境污染物，确保掩模的清洁度和长期稳定性。
光掩模版制造
研发与产业化生产先进半导体光掩模版，用于集成电路光刻工艺的高精度图形转移，是半导体制造过程中的关键组件。
融资次数
2
员工数量
100-499人
专利数量
25
经营范围
电子专用材料制造;电子专用材料研发;电子专用材料销售;集成电路设计;集成电路制造;集成电路销售;半导体器件专用设备制造;半导体器件专用设备销售;电子产品销售;集成电路芯片及产品制造;集成电路芯片及产品销售;软件开发;软件销售;技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广;信息技术咨询服务;科技中介服务;企业管理咨询;信息咨询服务（不含许可类信息咨询服务）;采购代理服务;技术进出口;货物进出口
主营业务
先进半导体光掩模的研发与产业化生产
广州新锐光掩模科技有限公司
其他有限责任公司
￥23.6亿
2021-02-08
邱慈云
020-82110588
biyunzeng@nrmtc.com
广州市黄埔区新芯光产业园新芯光一街2号