产品&解决方案
该公司开发的化学气相沉积（CVD）设备采用多层反应腔设计和智能温度控制系统，针对薄膜沉积进行优化。核心创新在于集成原位监测技术，实现原子层级的薄膜控制，应用于低k介电层和金属层的沉积，具有出色的膜层均一性和粘附性，可减少工艺波动并提升产量。
陛通股份在半导体制造设备中采用先进的等离子体刻蚀技术，包括高密度等离子体源（如ICP或CCP）的创新设计、精密射频电源控制系统以及优化的气体分布机制。该技术实现纳米级特征尺寸的刻蚀精度，通过实时监控和自适应算法提高刻蚀均匀性，适用于复杂结构的刻蚀工艺，创新点包括降低颗粒污染和提高能效。
专注于半导体工厂的能源管理技术和节能减排方案，例如废热回收、智能监控系统和绿色工艺优化，旨在帮助客户实现可持续发展目标。数据基于公司业务合作案例和行业技术白皮书。
供应半导体生产设备的原厂备件和兼容件，涵盖各种关键设备组件，如泵阀、传感器和控制系统，帮助客户减少停机时间和运营成本。信息来源包括公司公开招标文件和行业供应链报告。
提供半导体制造设备的维护、修理、翻新和技术支持服务，包括光刻机、蚀刻机、CVD等设备的运行优化和故障排除，确保客户生产线稳定性和效率。业务基于公开报告和行业实践，主要针对晶圆厂和集成电路制造商的需求。
提供7×24小时设备预防性维护、远程故障诊断及快速现场响应服务，建立设备健康管理系统（包括振动监测、粒子计数等实时数据采集），配套原厂认证备件库和专业工程师团队。
基于国产替代需求，自主研发半导体核心设备（如物理气相沉积PVD设备），涵盖腔体设计、等离子源控制、工艺软件开发及厂务集成，实现从实验室验证到量产的全程技术支撑。
针对进口二手半导体设备（如光刻机、刻蚀机）提供全生命周期翻新服务，包括设备拆解清洗、核心部件检测与替换、系统软硬件升级、工艺调试及可靠性验证，延长设备使用周期并提升性能指标。
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融资次数
6
员工数量
100-499人
专利数量
164
公司简介
2008年11月17日,上海陛通半导体能源科技有限公司成立。 2016年1月25日,有限公司整体变更为股份公司,名称变更为上海陛通半导体能源科技股份有限公司。
经营范围
一般项目：半导体生产用镀膜设备、半导体生产用溅射设备、磁控溅射设备和其他电子专用设备的设计、研发和制造，包括配套设备和零配件，销售自产产品并提供相关的技术咨询、技术服务（涉及许可经营的凭许可证经营）；上述相关设备及配套零配件的批发及进出口（不涉及国营贸易管理商品，涉及配额、许可证管理商品的，按国家有关规定办理申请）。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）
主营业务
半导体设备技术服务与维护
上海陛通半导体能源科技股份有限公司
股份有限公司(中外合资、未上市)
￥5,345万
2008-11-17
宋维聪
021-50151663
marrina_ma@betonetech.com
上海市浦东新区庆达路315号13幢3F