半导体光刻胶
面向集成电路制造的高端光刻胶产品，包括i-line、KrF、ArF等不同类型光刻胶，支持从微米到纳米级的图形化制程。产品具备优异的粘附性、耐蚀刻性和曝光线性度，适用于逻辑芯片、存储器芯片的高密度互连层制造。部分光刻胶已通过主流半导体foundry厂的验证，可用于先进制程节点（如14nm/7nm）。
平板显示光刻胶
针对平板显示面板（如LCD、OLED）的高端制程需求设计的光刻胶系列，提供高分辨率（sub-micron精度）、高光敏度和低缺陷率。产品涵盖紫外线（UV）和深紫外线（DUV）曝光波段，用于制作薄膜晶体管（TFT）阵列、像素电极等关键结构，确保高亮度和低功耗显示性能。
半导体清洗剂
专用于半导体制造过程中的晶圆清洗，能有效去除表面有机污染物（如光刻胶残留物）、无机粒子、金属离子等杂质，提高后续光刻胶涂布和曝光工艺的良率。产品包括酸性和碱性清洗剂配方，适配不同半导体制程节点，如28nm及以下技术节点的要求。
融资次数
4
员工数量
-
专利数量
16
经营范围
一般经营项目是：电子专用材料销售；半导体器件专用设备销售；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动），许可经营项目是：货物进出口；技术进出口。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以相关部门批准文件或许可证件为准）
主营业务
光刻胶及配套材料的研发、生产和提供
深圳迪道微电子科技有限公司
有限责任公司
￥3,288万
2020-11-17
康威
0755-27109891
mandy@didaomat.com
深圳市光明区凤凰街道塘尾社区光明大道与东长路交叉口东南侧南太云创谷园区2栋805