配套清洗剂技术
专注于光刻制程中的残留物去除技术，采用环保型配方（如弱碱性或中性溶剂体系），实现对光刻胶残留、金属离子和颗粒物的高效去除而不损伤基板。创新点包括选择性清洗机制，通过表面活性剂优化匹配基材界面能量，减少对金属互连层和介电层的腐蚀风险，同时通过闭环回收系统降低废液排放。核心技术强调在酸性清洗条件下维持高清洗效率，提升了晶圆洁净度和良率。
高端光刻胶合成技术
基于光敏聚合物化学的配方优化技术，针对先进制程（如28nm以下集成电路节点和高分辨率平板显示）实现高分辨率光刻图形。创新点包括分子结构的精确调控，如引入低分子量树脂以减小线宽粗糙度（LWR），并通过曝光响应优化实现亚微米级线宽控制，同时提升耐蚀刻性能。核心技术整合了光引发剂系统设计，确保高对比度和环境稳定性，减少显影过程中的缺陷生成。
融资次数
4
员工数量
-
专利数量
16
经营范围
一般经营项目是：电子专用材料销售；半导体器件专用设备销售；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动），许可经营项目是：货物进出口；技术进出口。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以相关部门批准文件或许可证件为准）
主营业务
光刻胶及配套材料的研发、生产和提供
深圳迪道微电子科技有限公司
有限责任公司
￥3,288万
2020-11-17
康威
0755-27109891
mandy@didaomat.com
深圳市光明区凤凰街道塘尾社区光明大道与东长路交叉口东南侧南太云创谷园区2栋805