产品&解决方案
绿菱气体开发的笑气（N2O）高纯化系统，创新在采用先进的吸附和化学过滤步骤，去除水分、碳氢化合物等痕量污染物，达到亚ppb水平纯度。突出创新点是实现了无缝的大批量供应模式，结合在线监测技术实时保障气体稳定性，支持长周期半导体制造过程。这解决了传统气体供应中的纯度波动问题，并在国产替代中填补技术空白。
绿菱气体自主研发的氟碳类气体（如四氟化碳CF4、六氟化硫替代品等）高纯化工艺，创新点在于采用多级低温精馏耦合催化纯化技术，实现杂质含量控制至ppb（十亿分之一）级别，确保气体纯度超过99.999%（5N级）。这种技术解决了半导体蚀刻过程中痕量杂质引起的缺陷问题，核心创新在于国产化的连续生产系统和优化反应器设计，降低能耗并提高批次稳定性。
产品下游及终端客户包括国际四大气体公司（美国空气化工、德国林德集团、法国液化空气、大阳日酸）和全球知名半导体厂商（如台积电、三星、中芯国际、长江存储、长鑫存储），确保技术领先供应。
实现高纯度电子气体的规模化生产制造，多种产品在国内独家大批量供应，应用于集成电路制造。
专注于开发高纯度电子级气体，包括氟碳类化合物（如八氟环丁烷和八氟环戊烷）和一氧化二氮（笑气）等，服务于半导体行业的蚀刻和沉积工艺。
电子级高纯气体，纯度≥99.99%，专用于先进半导体刻蚀工艺。它在高选择性刻蚀中提供优异的性能，特别是在极紫外光刻（EUV）技术下的精细刻蚀，适用于28纳米以下先进制程节点。产品通过自主研发技术实现高纯度输出，确保低残留物污染。
电子级高纯气体，纯度≥99.999%，在半导体制造中用于热氧化过程、掺杂和退火应用。它能作为氧化剂在高温下生成二氧化硅薄膜，用于栅极绝缘层和隔离层形成。产品具有高稳定性和纯度控制，适用于纳米级芯片工艺，提升晶体管性能和可靠性。
电子级高纯气体，纯度高达99.999%，广泛应用于半导体干法刻蚀工艺中。它主要用于刻蚀硅基材料、氧化物和氮化物层，提供高刻蚀速率和均匀性，在逻辑电路和存储芯片制造中发挥关键作用。产品通过多级纯化技术去除杂质，确保低颗粒度控制。
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融资次数
6
员工数量
50-99人
专利数量
40
公司简介
绿菱气体专注于半导体行业用电子特种气体的研发和生产，自主研发多种高纯电子级氟碳类特气、笑气等产品，其中多种产品为国内独家大批量供应。公司下游及终端客户包括美国空气化工、德国林德集团、法国液化空气、大阳日酸等全球四大气体公司，以及台积电、三星、东芝、中芯国际、长江存储、长鑫存储等国内外知名半导体厂商，是国内电子特气行业的技术领先者。
经营范围
许可项目：特种设备检验检测。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以相关部门批准文件或许可证件为准）一般项目：电子专用材料制造；电子专用材料研发；信息咨询服务（不含许可类信息咨询服务）；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；金属材料销售；装卸搬运；非居住房地产租赁；特种设备出租；专用设备修理；石油钻采专用设备销售；电子真空器件制造；电子元器件制造；劳务服务（不含劳务派遣）。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）
主营业务
专注于半导体行业用电子特种气体的自主研发、生产和供应，特别在氟碳类高纯气体和笑气领域具有国内领先地位。
天津绿菱气体有限公司
有限责任公司
￥1.5027亿
2018-07-13
郭永洁
022-58992580
su.jing@linggas.com
天津经济技术开发区港达路12号