高纯四氟化碳（C4F6）
电子级高纯气体，纯度≥99.99%，专用于先进半导体刻蚀工艺。它在高选择性刻蚀中提供优异的性能，特别是在极紫外光刻（EUV）技术下的精细刻蚀，适用于28纳米以下先进制程节点。产品通过自主研发技术实现高纯度输出，确保低残留物污染。
笑气（一氧化二氮，N2O）
电子级高纯气体，纯度≥99.999%，在半导体制造中用于热氧化过程、掺杂和退火应用。它能作为氧化剂在高温下生成二氧化硅薄膜，用于栅极绝缘层和隔离层形成。产品具有高稳定性和纯度控制，适用于纳米级芯片工艺，提升晶体管性能和可靠性。
高纯一氟化碳（CF4）
电子级高纯气体，纯度高达99.999%，广泛应用于半导体干法刻蚀工艺中。它主要用于刻蚀硅基材料、氧化物和氮化物层，提供高刻蚀速率和均匀性，在逻辑电路和存储芯片制造中发挥关键作用。产品通过多级纯化技术去除杂质，确保低颗粒度控制。
高纯八氟环丁烷（c-C4F8）
电子级高纯氟碳气体，纯度≥99.995%，在半导体刻蚀工艺中用于深度刻蚀和选择性刻蚀应用。它提供优异的刻蚀选择性和稳定性，特别适用于65纳米以下先进制程节点中的沟槽刻蚀和介质材料刻蚀，提升器件性能和集成度。产品经过严格纯化处理，满足高纯度要求。
高纯三氟化氮（NF3）
电子级高纯气体，纯度通常达到99.999%以上，主要用于半导体制造中的等离子体刻蚀和反应腔清洗工艺。它能在高温下分解生成活性氟基，有效去除晶圆表面的硅、氧化物和金属残留物，提高芯片生产良率和效率。该产品符合SEMI标准，在先进逻辑器件和存储芯片生产中广泛应用。
融资次数
6
员工数量
50-99人
专利数量
40
经营范围
许可项目：特种设备检验检测。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以相关部门批准文件或许可证件为准）一般项目：电子专用材料制造；电子专用材料研发；信息咨询服务（不含许可类信息咨询服务）；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；金属材料销售；装卸搬运；非居住房地产租赁；特种设备出租；专用设备修理；石油钻采专用设备销售；电子真空器件制造；电子元器件制造；劳务服务（不含劳务派遣）。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）
主营业务
专注于半导体行业用电子特种气体的自主研发、生产和供应，特别在氟碳类高纯气体和笑气领域具有国内领先地位。
天津绿菱气体有限公司
有限责任公司
￥1.5027亿
2018-07-13
郭永洁
022-58992580
su.jing@linggas.com
天津经济技术开发区港达路12号