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铠欣半导体
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化学气相沉积(CVD)碳化硅陶瓷技术
铠欣半导体拥有完全自主知识产权的CVD技术,专用于制造半导体外延设备中的碳化硅陶瓷零部件,如石墨基座及热场整体解决方案。该技术的创新点在于采用优化的高温气相沉积工艺,实现高纯度(>99.999%)、高密度的碳化硅涂层,提升热传导均匀性和表面附着力,减少沉积缺陷,确保在苛刻外延环境中长期稳定运行。通过精确控制温度、气流和反应参数,该技术显著提高零部件的热稳定性和化学惰性,支持多种半导体材料的兼容外延。
融资次数
4
员工数量
小于50人
专利数量
2
经营范围
一般项目:技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广;电力电子元器件制造;电子元器件制造;电子元器件批发;电子专用设备制造;电子专用设备销售;半导体器件专用设备制造;半导体分立器件制造;半导体照明器件制造;半导体照明器件销售;半导体器件专用设备销售;光电子器件制造;电子产品销售;特种陶瓷制品销售;电子专用材料制造;电子专用材料销售;电子专用材料研发;新型膜材料销售;新材料技术推广服务;新材料技术研发;石墨及碳素制品制造;石墨及碳素制品销售;信息技术咨询服务;进出口代理;销售代理;国内贸易代理;技术推广服务;科技推广和应用服务;新型陶瓷材料销售;企业管理咨询(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动)
主营业务
半导体外延设备CVD碳化硅石墨基座及热场整体解决方案的研发、制造与服务
公司全称
苏州铠欣半导体科技有限公司
公司类型
有限责任公司(自然人投资或控股)
注册资本
¥1,397万
成立时间
2022-01-27
法定代表人
贺鹏博
电话
13873789226
地址
中国(江苏)自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区星湖街328号创意产业园4-B602