TCAD系列工具
半导体工艺与器件仿真套件，包含离子注入、刻蚀、沉积等工艺步骤的物理级模拟，以及纳米级器件电学特性分析，用于工艺研发阶段的参数优化与缺陷分析。
LithoExplorer
全流程计算光刻平台，整合工艺建模、光学仿真和良率分析模块，覆盖从设计到制造的完整光刻验证流程，支持三维工艺效果模拟与可制造性设计（DFM）。
NanoLMC
光源掩模协同优化系统，通过联合优化照明光源与掩模图形设计，突破光刻分辨率极限，解决先进节点中的成像瓶颈问题，提升晶圆生产良率。
NanoOPC
光学邻近效应校正软件，用于晶圆制造中的图形修正技术，通过精密算法补偿光刻过程中的光学衍射效应，确保电路图案精准转移至硅片。支持5nm及以下先进制程，具备大规模分布式计算能力。
融资次数
2
员工数量
小于50人
专利数量
10
经营范围
一般项目：技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；集成电路芯片设计及服务；软件销售；软件开发；电子元器件批发；半导体器件专用设备销售；电子元器件零售（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）
主营业务
为晶圆厂提供生产制造全流程EDA软件及工艺研发服务的综合解决方案，助力半导体制造企业实现高效、可靠的量产化。
苏州培风图南半导体有限公司
有限责任公司(自然人投资或控股)
￥671万
2021-06-28
沈忱
0512-67900636
support@cogenda.com
苏州工业园区金鸡湖大道1355号国际科技园141单元