高精度光刻工艺建模与校正技术
面向EUV/ArFi光刻的严格光学模型，集成三维掩模衍射计算与光刻胶化学反应动力学模拟。核心技术包括基于机器学习的光强分布快速预测算法，以及可解释性OPC（光学邻近校正）修正规则生成引擎。
基于AI的制造良率分析与提升系统
整合晶圆检测数据与制程参数的智能诊断系统，采用时空关联分析算法定位系统性缺陷根源。创新点在于将物理模型与深度强化学习结合，建立缺陷传播预测网络，实现由后段测试数据反推前段工艺偏差的因果推断。
半导体工艺器件仿真平台
融合流体动力学、化学反应、离子注入及电热特性等多物理场耦合的高精度TCAD仿真技术。重点解决先进工艺节点下量子效应、应力工程及三维结构带来的器件物理建模挑战，支持FinFET/GAA等前沿器件的虚拟制造与性能评估。
融资次数
2
员工数量
小于50人
专利数量
10
经营范围
一般项目：技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；集成电路芯片设计及服务；软件销售；软件开发；电子元器件批发；半导体器件专用设备销售；电子元器件零售（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）
主营业务
为晶圆厂提供生产制造全流程EDA软件及工艺研发服务的综合解决方案，助力半导体制造企业实现高效、可靠的量产化。
苏州培风图南半导体有限公司
有限责任公司(自然人投资或控股)
￥671万
2021-06-28
沈忱
0512-67900636
support@cogenda.com
苏州工业园区金鸡湖大道1355号国际科技园141单元