刻蚀器件主要用于等离子体刻蚀腔体及相关反应系统中,需在高能离子与腐蚀性气体环境下保持优异的机械与化学稳定性。UPAM提供的刻蚀组件包括Window、Nozzle、Liner及陶瓷涂层部件等,采用高纯铝合金、氧化铝或氟化物陶瓷材料制造,表面经精密等离子喷涂与致密化处理。产品可显著提升刻蚀均匀性、降低粒子污染,并有效延长设备维护周期,满足先进节点制程的高精度与高可靠性需求。

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刻蚀器件主要用于等离子体刻蚀腔体及相关反应系统中,需在高能离子与腐蚀性气体环境下保持优异的机械与化学稳定性。UPAM提供的刻蚀组件包括Window、Nozzle、Liner及陶瓷涂层部件等,采用高纯铝合金、氧化铝或氟化物陶瓷材料制造,表面经精密等离子喷涂与致密化处理。产品可显著提升刻蚀均匀性、降低粒子污染,并有效延长设备维护周期,满足先进节点制程的高精度与高可靠性需求。
