我们拥有整套的原子层沉积（Atomic Layer Deposition, ALD）开发设备，从公司成立以来一直致力于各种ALD前驱体材料的工艺开发，为半导体、新能源、光学、MEMS、催化、涂层、生物医疗等领域提供一体化薄膜工艺解决方案，基于客户关键工艺技术需求，不断进行工艺迭代，开发具有市场前景和竞争力的先进工艺。
我司掌握Thermal ALD、CCP ALD、ICP ALD等多种镀膜技术，承接ALD代加工业务，主要为高新企业、科研院所、高校提供专业的定制化镀膜服务，涉猎的薄膜种类有氧化物薄膜如：HfO2、ZrO2、TiO2、Al2O3、Nb2O5、Ta2O5、La2O3、In2O3、SnO2、SrTiO3等，氮化物薄膜如：TiN、Si3N4、AlN等，金属薄膜如：Cu、Ru、Pt、Co、Ge等。
